Фоторезисты-диффузанты в полупроводниковой технологии

Фоторезисты-диффузанты в полупроводниковой технологии

Dades bibliogràfiques
Autor corporatiu: Академия наук СССР (АН СССР) Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе (ФТИ)
Altres autors: Ельцов А. В. Андрей Васильевич (340)
Sumari:Авт. указаны на 4-й с.
Idioma:rus
Publicat: Ленинград, Наука, 1984
Matèries:
Материаловедение полупроводниковое
светочувствительные материалы полимерные
полупроводниковые приборы
производство
фоторезисты
диффузионные слои
примеси
диффузия
кремний
Format: Llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=286954
Descripció
Descripció física:118 с. ил.
Sumari:Авт. указаны на 4-й с.

Ítems similars