Фоторезисты-диффузанты в полупроводниковой технологии

Фоторезисты-диффузанты в полупроводниковой технологии

Bibliographic Details
Corporate Author: Академия наук СССР (АН СССР) Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе (ФТИ)
Other Authors: Ельцов А. В. Андрей Васильевич (340)
Summary:Авт. указаны на 4-й с.
Language:Russian
Published: Ленинград, Наука, 1984
Subjects:
Материаловедение полупроводниковое
светочувствительные материалы полимерные
полупроводниковые приборы
производство
фоторезисты
диффузионные слои
примеси
диффузия
кремний
Format: Book
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=286954

Similar Items