Измерение профиля концентрации носителей заряда в эпитаксиальных слоях арсенида галлия на барьере электролит-полупроводник
| Parent link: | Прогрессивные технологии и экономика в машиностроении: труды IV Всероссийской научно-практической конференции с международным участием, Юрга, 11-13 мая 2006 г./ Юргинский технологический институт (филиал) ; Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2006 Т. 2.— 2006.— С. 77-78 |
|---|---|
| Autor principal: | |
| Outros Autores: | , |
| Publicado em: |
2006
|
| Assuntos: | |
| Formato: | Capítulo de Livro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=276202 |