Основы фотолитографии: учебное пособие

Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Гудымович Е. Н. Елена Никифоровна
Korporativní autor: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт кибернетики (ИК) Кафедра компьютерных измерительных систем и метрологии (КИСМ)
Další autoři: Гавриленко Н. А. Наталия Айратовна
Shrnutí:Заглавие с титульного экрана
Электронная версия печатной публикации
В пособии изложены основы процессов фотолитографии для производства изделий электронной техники в строгой последовательности химических и физико-химических операций. Дан необходимый теоретический материал, описаны методики проведения практических работ по всему циклу фотолитографии и контроля качества полученного рисунка. Представлен большой объем справочных данных. Используются современные методы исследования, в том числе методы оптимизации и планирования эксперимента. Предназначено для студентов вузов, аспирантов и научных сотрудников, работающих в области полупроводникового материаловедения
AM_TPU_network
Jazyk:ruština
Vydáno: Томск, Изд-во ТПУ, 2013
Témata:
On-line přístup:http://www.lib.tpu.ru/fulltext2/m/2013/m308.pdf
Médium: Elektronický zdroj Kniha
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=246602

MARC

LEADER 00000nam0a2200000 4500
001 246602
005 20260422145613.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\268055 
090 |a 246602 
100 |a 20131206d2013 m y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a a j 001zy 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Основы фотолитографии  |e учебное пособие  |f Е. Н. Гудымович, Н. А. Гавриленко  |g Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Институт кибернетики (ИК), Кафедра компьютерных измерительных систем и метрологии (КИСМ) 
203 |a Текст  |c электронный 
210 |a Томск  |c Изд-во ТПУ  |d 2013 
300 |a Заглавие с титульного экрана 
300 |a Электронная версия печатной публикации 
330 |a В пособии изложены основы процессов фотолитографии для производства изделий электронной техники в строгой последовательности химических и физико-химических операций. Дан необходимый теоретический материал, описаны методики проведения практических работ по всему циклу фотолитографии и контроля качества полученного рисунка. Представлен большой объем справочных данных. Используются современные методы исследования, в том числе методы оптимизации и планирования эксперимента. Предназначено для студентов вузов, аспирантов и научных сотрудников, работающих в области полупроводникового материаловедения 
371 0 |a AM_TPU_network 
606 1 |a Фотолитография  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\64237  |9 81148 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a учебные пособия 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a организация производства 
610 1 |a фоторезисты 
610 1 |a фотохимические реакции 
610 1 |a переносы 
610 1 |a изображения 
610 1 |a особенности 
610 1 |a фотошаблоны 
610 1 |a подложки 
610 1 |a практические аспекты 
610 1 |a фоторезисты 
610 1 |a организация 
610 1 |a безопасность 
675 |a 621.382.049.77.002  |v 3 
700 1 |a Гудымович  |b Е. Н.  |g Елена Никифоровна 
701 1 |a Гавриленко  |b Н. А.  |c химик  |c доцент Томского политехнического университета, кандидат химических наук  |f 1970-  |g Наталия Айратовна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26438  |9 12142 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Институт кибернетики (ИК)  |b Кафедра компьютерных измерительных систем и метрологии (КИСМ)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18706 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20131206 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20140211  |g RCR 
856 4 0 |u http://www.lib.tpu.ru/fulltext2/m/2013/m308.pdf  |z http://www.lib.tpu.ru/fulltext2/m/2013/m308.pdf 
942 |c CF