Основы фотолитографии, учебное пособие
| Autor principal: | |
|---|---|
| Autor Corporativo: | |
| Otros Autores: | |
| Sumario: | Заглавие с титульного экрана Электронная версия печатной публикации В пособии изложены основы процессов фотолитографии для производства изделий электронной техники в строгой последовательности химических и физико-химических операций. Дан необходимый теоретический материал, описаны методики проведения практических работ по всему циклу фотолитографии и контроля качества полученного рисунка. Представлен большой объем справочных данных. Используются современные методы исследования, в том числе методы оптимизации и планирования эксперимента. Предназначено для студентов вузов, аспирантов и научных сотрудников, работающих в области полупроводникового материаловедения Режим доступа: из корпоративной сети ТПУ |
| Publicado: |
Томск, Изд-во ТПУ, 2013
|
| Materias: | |
| Acceso en línea: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext2/m/2013/m308.pdf |
| Formato: | Electrónico Libro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=246602 |
| Sumario: | Заглавие с титульного экрана Электронная версия печатной публикации В пособии изложены основы процессов фотолитографии для производства изделий электронной техники в строгой последовательности химических и физико-химических операций. Дан необходимый теоретический материал, описаны методики проведения практических работ по всему циклу фотолитографии и контроля качества полученного рисунка. Представлен большой объем справочных данных. Используются современные методы исследования, в том числе методы оптимизации и планирования эксперимента. Предназначено для студентов вузов, аспирантов и научных сотрудников, работающих в области полупроводникового материаловедения Режим доступа: из корпоративной сети ТПУ |
|---|