Анализ тонких пленок SiO2 и плавиковой кислоты на содержание микропримесей некоторых элементов методом АПН; Известия Томского политехнического института [Известия ТПИ]; Т. 275 : Неорганическая химия и химическая технология
| Parent link: | Известия Томского политехнического института [Известия ТПИ]/ Томский политехнический институт (ТПИ).— , 1944-1976 Т. 275 : Неорганическая химия и химическая технология.— 1976.— [С. 109-112] |
|---|---|
| Hovedforfatter: | |
| Andre forfattere: | , |
| Summary: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Разработана методика анализа тонких пленок SiO2 плавиковой кислоты и воды, используемых в технологии производства интегральных схем на содержание 10-7 10-9% примесей Zn, Cd, Pb, In, Sn, Cu, Bi. |
| Sprog: | russisk |
| Udgivet: |
1976
|
| Fag: | |
| Online adgang: | Черно-белая версия для предварительного просмотра Цветная версия без потери качества |
| Format: | Electronisk Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=237374 |
| Fysisk beskrivelse: | 2 файла (206 Кб, 8 Мб) |
|---|---|
| Summary: | Заглавие с титульного листа Электронная версия печатной публикации Разработана методика анализа тонких пленок SiO2 плавиковой кислоты и воды, используемых в технологии производства интегральных схем на содержание 10-7 10-9% примесей Zn, Cd, Pb, In, Sn, Cu, Bi. |