Исследование фазового состава тонких пленок диоксида титана, полученных среднечастотным дуальным магнетронным распылением; Перспективы развития фундаментальных наук

Xehetasun bibliografikoak
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2012.— [С. 215-217]
Egile nagusia: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Beste egile batzuk: Подаруева Ю. С. (научный руководитель), Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
Gaia:Заглавие с экрана
Titanium dioxide (TiO2) thin films were obtained using the DMS method. In this report we discuss the phase composition thin films of TiO2 depending on conditions of sputtering. The films were characterized by spectrophotometry and ellipsometry methods. The main result of this investigation is determination the mode of deposition thin films of the required stoichiometry.
Hizkuntza:ingelesa
Argitaratua: 2012
Saila:Физика
Gaiak:
Sarrera elektronikoa:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2012/C21/069.pdf
Formatua: Baliabide elektronikoa Liburu kapitulua
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=237350
Deskribapena
Deskribapen fisikoa:1 файл(348 Кб)
Gaia:Заглавие с экрана
Titanium dioxide (TiO2) thin films were obtained using the DMS method. In this report we discuss the phase composition thin films of TiO2 depending on conditions of sputtering. The films were characterized by spectrophotometry and ellipsometry methods. The main result of this investigation is determination the mode of deposition thin films of the required stoichiometry.