Technological features of the dual magnetron sputtering system for reactive deposition of thin film coatings; Modern technique and technologies MTT' 2012
| Parent link: | Modern technique and technologies MTT' 2012.— 2012.— [С. 181-182] |
|---|---|
| מחבר ראשי: | |
| מחבר תאגידי: | |
| מחברים אחרים: | |
| סיכום: | Заглавие с титульного листа |
| שפה: | אנגלית |
| יצא לאור: |
2012
|
| סדרה: | Section VIII: Modern Physical Methods in Science, Engineering and Medicine |
| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Conferences/2012/C2/ENG/eng_084.pdf |
| פורמט: | אלקטרוני Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=227964 |