Technological features of the dual magnetron sputtering system for reactive deposition of thin film coatings; Modern technique and technologies MTT' 2012
| Parent link: | Modern technique and technologies MTT' 2012.— 2012.— [С. 181-182] |
|---|---|
| Κύριος συγγραφέας: | |
| Συγγραφή απο Οργανισμό/Αρχή: | |
| Άλλοι συγγραφείς: | |
| Περίληψη: | Заглавие с титульного листа |
| Γλώσσα: | Αγγλικά |
| Έκδοση: |
2012
|
| Σειρά: | Section VIII: Modern Physical Methods in Science, Engineering and Medicine |
| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Conferences/2012/C2/ENG/eng_084.pdf |
| Μορφή: | Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=227964 |
| Φυσική περιγραφή: | 1 файл (267 Кб) |
|---|---|
| Περίληψη: | Заглавие с титульного листа |