Technological features of the dual magnetron sputtering system for reactive deposition of thin film coatings
| Parent link: | Modern technique and technologies MTT' 2012.— 2012.— [С. 181-182] |
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| 1. Verfasser: | |
| Körperschaft: | |
| Weitere Verfasser: | |
| Zusammenfassung: | Заглавие с титульного листа |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
2012
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| Schriftenreihe: | Section VIII: Modern Physical Methods in Science, Engineering and Medicine |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Conferences/2012/C2/ENG/eng_084.pdf |
| Format: | Elektronisch Buchkapitel |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=227964 |
| Beschreibung: | 1 файл (267 Кб) |
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| Zusammenfassung: | Заглавие с титульного листа |