• English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
    • Հայերէն
    • Українська
Advanced
  • Ч. 2
  • Cite this
  • Text this
  • Email this
  • Print
  • Export Record
    • Export to RefWorks
    • Export to EndNoteWeb
    • Export to EndNote
  • Permanent link
Ч. 2

Ч. 2

Bibliographic Details
Parent link:Микролитография: принципы, методы, материалы: в 2 ч: пер. с англ./ У. Моро. Ч. 2.— , 1990.— 5-03-001372-5
Published: 1990
Subjects:
микролитография
микроэлектроника
полупроводниковые материалы
обработка
экспонирование
задубливание
травление
безрезистные технологии
резисты
удаление
литография
литографические процессы
Format: Book
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=194997
  • Holdings
  • Description
  • Similar Items
  • Staff View

Similar Items

  • Проблемы литографии в микроэлектронике
    Published: (Москва, Наука, 1987)
  • Ч. 1
    Published: (1990)
  • Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур: математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами курс лекций
    by: Юрчук С. Ю.
    Published: (Москва, МИСИС, 2013)
  • Физика субмикронной литографии
    by: Валиев К. А. Камиль Ахметович
    Published: (Москва, Наука, 1990)
  • Технологии электронной компонентной базы учебное пособие
    by: Хорин И. А. Иван Анатольевич
    Published: (Саратов, Ай Пи Эр Медиа, 2018)