• English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
    • Հայերէն
    • Українська
Advanced
  • К проектированию систем обрабо...
  • Cite this
  • Text this
  • Email this
  • Print
  • Export Record
    • Export to RefWorks
    • Export to EndNoteWeb
    • Export to EndNote
  • Permanent link
К проектированию систем обработки слабоконтрастного завуалированного рентгеноскопического изображения Отчет о НИР

К проектированию систем обработки слабоконтрастного завуалированного рентгеноскопического изображения, Отчет о НИР

Bibliographic Details
Corporate Author: Томский политехнический институт (ТПИ) (595)
Other Authors: Ананьев Л. М. (673), Кривчик В. Я. (677)
Published: Томск, 1964
Subjects:
отчеты о НИР
рентгеноспектроскопические изображения
проектирование
обработка
литературные обзоры
контрастность
рекомендации
электронная развертка
Format: Book
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=187732
  • Holdings
  • Description
  • Similar Items
  • Staff View

Similar Items

  • Современные способы сушки термочувствительных материалов. Литературный обзор [Книга 2] Промежуточный отчет о НИР Тема: 4-8/73
    Published: (Томск, 1976)
  • Локализация контрастных участков изображения при помощи алгоритма восходящего внимания
    by: Худоба Е. Н.
    Published: (2010)
  • Основы цифровой обработки изображений учеб. пособие
    by: Жаринов О. О.
    Published: (Санкт-Петербург, ГУАП, 2023)
  • Локализация контрастных участков изображения при помощи алгоритма восходящего внимания
    by: Худоба Е. Н.
    Published: (2010)
  • Self-images contrast enhancement for displacement Talbot lithography by means of composite mesoscale amplitude-phase masks
    Published: (2020)