Bibliographic Details
| Main Author: |
Кузнецов Г. Д. Геннадий Дмитриевич |
|---|
| Corporate Author: |
Московский государственный институт стали и сплавов (МИСиС) |
|---|
| Other Authors: |
Кушхов А. Р. Аскер Русланович,
Билалов Б. А. Билал Аругович |
|---|
| Summary: | В учебном пособии рассматриваются закономерности изменения параметров тонкопленочных гетерокомпозиций материалов электронной техники при воздействии электронных, ионных потоков и низкотемпературной плазмы для микро- и наноразмерных устройств с улучшенными характеристиками. Цель данного пособия - формирование современных представлений и достижений в области микро- и наноиндустрии. Учитывая, что в рассматриваемых процессах основную роль играют электроны и ионы, принято для краткости называть технологию элионной. Соответствует программе курса «Элионная технология в микро- и наноиндустрии». Предназначено для подготовки специалистов по направлению 210100 «Электроника и микроэлектроника» и может быть полезно для обучающихся по направлению 210600 «Нанотехнология», 210601 «Нанотехнология в электронике» и по специальности 210602 «Наноматериалы». |
|---|
| Language: | Russian |
|---|
| Published: |
Москва, Изд-во МИСиС, 2008
|
|---|
| Subjects: | |
|---|
| Format: | Book
|
|---|
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=177797 |
|---|
