Ионно-плазменная обработка материалов: курс лекций

Bibliographic Details
Main Author:	Кузнецов Г. Д. Геннадий Дмитриевич
Corporate Author:	Московский государственный институт стали и сплавов (МИСиС)
Other Authors:	Кушхов А. Р. Аскер Русланович
Summary:	В курсе лекций рассматриваются основные ионно-плазменные процессы в технологии микро- и наноэлектроники. Приводится классификация процессов травления и осаждения тонких пленок материалов электронной техники и гетероструктур на их основе. Рассматриваются особенности селективного и анизотропного травления наноразмерных слоистых материалов при различных способах вакуум-плазменных процессов. Обсуждаются проблемы получения химически чистой поверхности подложек, а также возможные случаи повреждения и изменения шероховатости приповерхностного слоя. Анализируются возможности ионного синтеза и кристаллизации пленок при различных условиях ионного воздействия на поверхность обрабатываемого материала. Приводятся примеры использования ионно-плазменных процессов для создания элементов микро- и наноэлектроники. Курс лекций подготовлен по рекомендации горно-металлургической секции РАЕН. Содержание соответствует государственному образовательному стандарту по направлению «Электроника и микроэлектроника». Предназначено для студентов (бакалавров и магистров), обучающихся по направлениям 210100 «Электроника и микроэлектроника», 210600 «Нано-технология».
Language:	Russian
Published:	Москва, Изд-во МИСиС, 2008
Subjects:	Микроэлектронные схемы интегральные > Травление ионно-плазменные технологии классификация тонкие пленки вакуум-плазменное нанесение ионный синтез ионная кристаллизация наноэлектроника микроэлектроника элементы лекции учебные пособия металлургия нанотехнологии плазма
Format:	Book
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=177764