書誌詳細
| 第一著者: |
Кузнецов Г. Д. Геннадий Дмитриевич |
|---|
| 団体著者: |
Московский государственный институт стали и сплавов (МИСиС) |
|---|
| その他の著者: |
Кушхов А. Р. Аскер Русланович |
|---|
| 要約: | В курсе лекций рассматриваются основные ионно-плазменные процессы в технологии микро- и наноэлектроники. Приводится классификация процессов травления и осаждения тонких пленок материалов электронной техники и гетероструктур на их основе. Рассматриваются особенности селективного и анизотропного травления наноразмерных слоистых материалов при различных способах вакуум-плазменных процессов. Обсуждаются проблемы получения химически чистой поверхности подложек, а также возможные случаи повреждения и изменения шероховатости приповерхностного слоя. Анализируются возможности ионного синтеза и кристаллизации пленок при различных условиях ионного воздействия на поверхность обрабатываемого материала. Приводятся примеры использования ионно-плазменных процессов для создания элементов микро- и наноэлектроники. Курс лекций подготовлен по рекомендации горно-металлургической секции РАЕН. Содержание соответствует государственному образовательному стандарту по направлению «Электроника и микроэлектроника». Предназначено для студентов (бакалавров и магистров), обучающихся по направлениям 210100 «Электроника и микроэлектроника», 210600 «Нано-технология». |
|---|
| 言語: | ロシア語 |
|---|
| 出版事項: |
Москва, Изд-во МИСиС, 2008
|
|---|
| 主題: | |
|---|
| フォーマット: | 図書
|
|---|
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=177764 |
|---|
