Формирование поверхностного и приповерхностного слоев на полупроводниках типа AIIIBV; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 313, № 3: Химия. Физика

Bibliografiset tiedot
Parent link:Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2000-
Т. 313, № 3: Химия. Физика.— 2008.— [С. 25-30]
Päätekijä: Мокроусов Г. М.
Muut tekijät: Зарубина О. Н. Оксана Николаевна
Yhteenveto:Заглавие с титульного листа
Электронная версия печатной публикации
На примере арсенида галлия рассмотрен возможный механизм формирования, состав и строение поверхностного фазового и приповерхностного нарушенного кристаллического слоев полупроводниковых соединений в зависимости от величины электродного потенциала и pH водной системы. На основе учета степени отклонения от стехиометрического состава (области гомогенности) соединения и диффузионных представлений впервые проведена оценка толщины приповерхностного слоя в связи с условиями химической обработки материала.
Kieli:venäjä
Julkaistu: 2008
Sarja:Химия
Aiheet:
Linkit:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2008/v313/i3/04.pdf
Aineistotyyppi: Elektroninen Kirjan osa
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=173544

MARC

LEADER 00000nla2a2200000 4500
001 173544
005 20231220120237.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\188225 
035 |a RU\TPU\book\188223 
090 |a 173544 
100 |a 20091228d2008 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drnn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Формирование поверхностного и приповерхностного слоев на полупроводниках типа AIIIBV  |f Г. М. Мокроусов, О. Н. Зарубина 
203 |a Текст  |c электронный 
215 |a 1 файл (449 Кб) 
225 1 |a Химия 
300 |a Заглавие с титульного листа 
300 |a Электронная версия печатной публикации 
320 |a [Библиогр.: с. 30 (16 назв.)] 
330 |a На примере арсенида галлия рассмотрен возможный механизм формирования, состав и строение поверхностного фазового и приповерхностного нарушенного кристаллического слоев полупроводниковых соединений в зависимости от величины электродного потенциала и pH водной системы. На основе учета степени отклонения от стехиометрического состава (области гомогенности) соединения и диффузионных представлений впервые проведена оценка толщины приповерхностного слоя в связи с условиями химической обработки материала. 
337 |a Adobe Reader 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\book\176237  |t Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]  |f Томский политехнический университет (ТПУ)  |d 2000- 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\book\188221  |x 1684-8519  |t Т. 313, № 3: Химия. Физика  |v [С. 25-30]  |d 2008  |p 133 с. 
610 1 |a поверхностные слои 
610 1 |a приповерхностные слои 
610 1 |a полупроводники 
610 1 |a арсенид галлия 
610 1 |a фазовые слои 
610 1 |a кристаллические слои 
610 1 |a полупроводниковые соединения 
610 1 |a электродные потенциалы 
610 1 |a водные системы 
610 1 |a стехиометрический состав 
610 1 |a гомогенность 
610 1 |a соединения 
610 1 |a химическая обработка 
610 1 |a материалы 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a электронный ресурс 
700 1 |a Мокроусов  |b Г. М. 
701 1 |a Зарубина  |b О. Н.  |c специалист в области нефтегазового дела  |c доцент Томского политехнического университета, кандидат химических наук  |f 1981-  |g Оксана Николаевна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\34919  |9 18237 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20090623  |g PSBO 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20211207  |g PSBO 
856 4 |u http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2008/v313/i3/04.pdf 
942 |c CF