• English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
    • Հայերէն
    • Українська
Avançada
  • Разработка методов и средств и...
  • Citar
  • Enviar aquest missatge de text
  • Enviar per correu electrònic aquest
  • Imprimir
  • Exportar registre
    • Exportar a RefWorks
    • Exportar a EndNoteWeb
    • Exportar a EndNote
  • Enllaç permanent
Разработка методов и средств измерений параметров полупроводниковых материалов и структур: Отчет о НИР; Тема: 10-36/89

Разработка методов и средств измерений параметров полупроводниковых материалов и структур: Отчет о НИР; Тема: 10-36/89

Dades bibliogràfiques
Autor corporatiu: Томский политехнический институт (ТПИ) (595)
Altres autors: Асанов О. М. (руководитель), Губайдулина Р. Х. (исполнитель)
Idioma:rus
Publicat: Томск, 1990
Matèries:
Полупроводниковые материалы > Параметры > Измерение
полупроводниковые структуры
средства измерения
вольт-фарадные характеристики
электролиты
арсенид галлия
фосфиды
аналого-цифровые преобразователи
отчеты о НИР
Format: Llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=152522
  • Fons
  • Descripció
  • Ítems similars
  • Visualització del personal
Descripció
Descripció física:52 л.

Ítems similars

  • Физика полупроводниковых материалов: межвузовский тематический сборник
    Publicat: (Москва, Изд-во МЭИ, 1985)
  • Микропроцессорный характериограф; Неразрушающий контроль: электронное приборостроение, технологии, безопасность; Т. 1
    per: Бикбулатов А. С.
    Publicat: (2014)
  • Технология полупроводниковых материалов: учебное пособие
    per: Александров С. Е. Сергей Евгеньевич
    Publicat: (СПб., Лань, 2012)
  • Механическая обработка полупроводниковых материалов
    per: Бочкин О. И. Олег Иванович
    Publicat: (Москва, Высшая школа, 1983)
  • Легирование эпитаксиальных слоев полупроводников
    per: Харченко В. В. Валерий Владимирович
    Publicat: (Ташкент, Фан, 1979)