Ч. 1: Технологические процессы изготовления кремниевых интегральных схем и их моделирование

Библиографические подробности
Источник:Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем: учебное пособие для вузов/ М. А. Королев, Т. Ю. Крупкина, М. А. Ревелева; под ред. Ю. А. Чаплыгина. Ч. 1: Технологические процессы изготовления кремниевых интегральных схем и их моделирование.— , 2007.— 978-5-94774-337-1
Примечания:Дано представление об основных маршрутах изготовления и конструкциях изделий микроэлектроники на основе кремния. Рассмотрены основные процессы создания интегральных схем: химическая и плазмохимическая обработка материала; введение примесей в кремний; выращивание окисла кремния и его охлаждение; литография; создание металлических соединений и контактов. Приведены методы моделирования процессов распределения примесей в полупроводниковых структурах. Для студентов и аспирантов, специализирующихся в области микроэлектроники и полупроводниковых приборов. Может быть использовано также специалистами, работающими в данной области.
Язык:русский
Опубликовано: 2007
Предметы:
Формат: Книга
Запись в KOHA:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=144565

MARC

LEADER 00000nam2a2200000 4500
001 144565
005 20231101221114.0
010 |a 9785947743364 
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\156662 
090 |a 144565 
100 |a 20081006d2007 m y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a a j 001zy 
200 0 |a Ч. 1: Технологические процессы изготовления кремниевых интегральных схем и их моделирование 
210 |d 2007 
215 |a 398 с.  |c ил. 
320 |a Библиогр.: с. 397. 
330 |a Дано представление об основных маршрутах изготовления и конструкциях изделий микроэлектроники на основе кремния. Рассмотрены основные процессы создания интегральных схем: химическая и плазмохимическая обработка материала; введение примесей в кремний; выращивание окисла кремния и его охлаждение; литография; создание металлических соединений и контактов. Приведены методы моделирования процессов распределения примесей в полупроводниковых структурах. Для студентов и аспирантов, специализирующихся в области микроэлектроники и полупроводниковых приборов. Может быть использовано также специалистами, работающими в данной области. 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\book\153849  |y 978-5-94774-337-1  |t Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем  |o учебное пособие для вузов  |f М. А. Королев, Т. Ю. Крупкина, М. А. Ревелева  |g под ред. Ю. А. Чаплыгина  |v Ч. 1: Технологические процессы изготовления кремниевых интегральных схем и их моделирование  |d 2007  |s Электроника 
606 1 |a Схемотехника интегральная  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\58367  |9 76160 
610 1 |a интегральные микросхемы 
610 1 |a полупроводниковые материалы 
610 1 |a поверхностная обработка 
610 1 |a кремний 
610 1 |a диэлектрические пленки 
610 1 |a легирование 
610 1 |a примеси 
610 1 |a диффузия 
610 1 |a литографические процессы 
610 1 |a металлизация 
610 1 |a математическое моделирование 
610 1 |a ионная имплантация 
610 1 |a термическое окисление 
610 1 |a фотолитография 
610 1 |a учебные пособия 
610 1 |a микроэлектроника 
610 1 |a твердотельная электроника 
610 1 |a полупроводниковые приборы 
675 |a 621.382.049.77(075.8)  |v 3 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20081006  |g PSBO 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160928  |g PSBO 
900 |a Микроэлектроника 
900 |a Твердотельная электроника 
900 |a Плазмохимия 
942 |c BK 
951 |b 210104 
959 |a 87/20081006  |d 1  |e 220,00  |f ЧЗТЛ:1 
959 |a 81/20090817  |d 3  |e 220,00  |f УФ:3