Résultats de la recherche - Yuryeva A. V. Alena Victorovna

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  1. 1

    The energy flux onto substrate during coating deposition using magnetron with liquid metal target par Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna

    Publié 2016
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  2. 2

    Erosion yield of metal surface under ion pulsed irradiation par Krivobokov V. P. Valery Pavlovich

    Publié 2013
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  3. 3

    Thermal processes and emission of atoms from the liquid phase target surface of a magnetron sputtering system par Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna

    Publié 2015
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  4. 4

    Magnetron deposition of coatings with evaporation of the target par Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna

    Publié 2015
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  5. 5

    Energy and substance transfer in magnetron sputtering systems with liquid-phase target

    Publié 2016
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  6. 6

    Metal Coatings Deposition Using Hot Target Magnetrons

    Publié 2019
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  7. 7

    Effect of material of the crucible on operation of magnetron sputtering system with liquid-phase target

    Publié 2017
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  8. 8

    Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target

    Publié 2019
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  9. 9

    High-voltage MIS-gated GaN transistors

    Publié 2017
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  10. 10

    The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering

    Publié 2018
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  11. 11

    Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets

    Publié 2019
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  12. 12

    Peculiarities of metal coatings deposition using magnetron sputtering systems with hot and evaporative targets

    Publié 2018
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  13. 13
  14. 14

    Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems:Influence of target state and pulsing unit

    Publié 2016
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  15. 15

    Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit

    Publié 2016
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  16. 16

    The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target

    Publié 2019
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  17. 17

    Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target

    Publié 2017
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