खोज परिणाम - Oskomov K. V.
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Effect of deposition conditions on optical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method
प्रकाशित 2018अन्य लेखक: “…Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich…”
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2
Peculiarities of high-current electron beam effect on the structure of ni-ti alloy surface implanted by krypton ions
प्रकाशित 2012अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
3
Mechanical and tribological characteristics of a-C:H:SiOx films formed by PACVD on titanium alloy VT1-0
प्रकाशित 2019अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
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इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
4
The Deposition of Silicon-Carbon Coatings in Plasma Based Nonself-Sustained Arc Discharge with Heated Cathode
प्रकाशित 2016अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
5
Surface hardening of stainless steel by runaway electronspreionized diffuse discharge in air atmosphere
प्रकाशित 2015अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
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इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
6
Modification of various metals by volume discharge in air atmosphere
प्रकाशित 2015अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
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इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
7
Modification of the surface layers of copper by a diffuse discharge in atmospheric pressure air
प्रकाशित 2015अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
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इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
8
Deposition of silicon–carbon coatings from the plasma of a non-self-sustained arc discharge with a heated cathode
प्रकाशित 2016अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
9
Influence of deposition conditions on mechanical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method
प्रकाशित 2018अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
10
Thermal stability of a-C:H:SiOx thin films in hydrogen atmosphere
प्रकाशित 2019अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
11
Deposition of ultrahard Ti–Si–N coatings by pulsed high-current reactive magnetron sputtering
प्रकाशित 2016अन्य लेखक: “…Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich…”
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इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
12
Preparation of nickel-containing conductive amorphous carbon films by magnetron sputtering with negative high-voltage pulsed substrate bias
प्रकाशित 2018अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
13
Modification of the steel surface treated by a volume discharge plasma in nitrogen at atmospheric pressure
प्रकाशित 2016अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
14
Plasma Chemical Synthesis of Amorphous Hydrocarbon Films Alloyed by Silicon, Oxygen and Nitrogen
प्रकाशित 2019अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
15
Comparative study of Cu films prepared by DC, high power pulsed and burst magnetron sputtering
प्रकाशित 2016अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
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Plasma-Chemical Deposition of Anti-Reflection and Protective Coating for Infrared Optics
प्रकाशित 2020अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
17
Natural Oxidation of Ultra-Thin Copper Films
प्रकाशित 2018अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
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Properties of ultra-thin Cu films grown by high power pulsed magnetron sputtering
प्रकाशित 2017अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
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Energy Flux at the Substrate During Dual Magnetron Sputtering of TiAlN Coating
प्रकाशित 2023अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय -
20
Kinetics of plasma-assisted chemical vapor deposition combined with inductively excited RF discharge and properties of a-C:H:SiOx coatings
प्रकाशित 2022अन्य लेखक: पूर्ण पाठ प्राप्त करें
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