Результати пошуку :: Library Catalog

1

Effect of substrate bias and substrate/plasma generator distance on properties of a-C:H:SiOx films synthesized by PACVD

Опубліковано 2019

Шифр: Завантаження...
Розміщений: Завантаження...

Отримати повний текст

Електронний ресурс Частина з книги