Résultats de la recherche - Oskomov K. V.
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Effect of deposition conditions on optical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method
Publié 2018Autres auteurs: “…Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich…”
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Peculiarities of high-current electron beam effect on the structure of ni-ti alloy surface implanted by krypton ions
Publié 2012Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Mechanical and tribological characteristics of a-C:H:SiOx films formed by PACVD on titanium alloy VT1-0
Publié 2019Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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The Deposition of Silicon-Carbon Coatings in Plasma Based Nonself-Sustained Arc Discharge with Heated Cathode
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Surface hardening of stainless steel by runaway electronspreionized diffuse discharge in air atmosphere
Publié 2015Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Modification of various metals by volume discharge in air atmosphere
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Modification of the surface layers of copper by a diffuse discharge in atmospheric pressure air
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Deposition of silicon–carbon coatings from the plasma of a non-self-sustained arc discharge with a heated cathode
Publié 2016Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Influence of deposition conditions on mechanical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method
Publié 2018Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Thermal stability of a-C:H:SiOx thin films in hydrogen atmosphere
Publié 2019Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Deposition of ultrahard Ti–Si–N coatings by pulsed high-current reactive magnetron sputtering
Publié 2016Autres auteurs: “…Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich…”
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Preparation of nickel-containing conductive amorphous carbon films by magnetron sputtering with negative high-voltage pulsed substrate bias
Publié 2018Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Modification of the steel surface treated by a volume discharge plasma in nitrogen at atmospheric pressure
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Plasma Chemical Synthesis of Amorphous Hydrocarbon Films Alloyed by Silicon, Oxygen and Nitrogen
Publié 2019Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Comparative study of Cu films prepared by DC, high power pulsed and burst magnetron sputtering
Publié 2016Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Plasma-Chemical Deposition of Anti-Reflection and Protective Coating for Infrared Optics
Publié 2020Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Natural Oxidation of Ultra-Thin Copper Films
Publié 2018Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Properties of ultra-thin Cu films grown by high power pulsed magnetron sputtering
Publié 2017Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Energy Flux at the Substrate During Dual Magnetron Sputtering of TiAlN Coating
Publié 2023Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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Kinetics of plasma-assisted chemical vapor deposition combined with inductively excited RF discharge and properties of a-C:H:SiOx coatings
Publié 2022Autres auteurs: Accéder au texte intégral
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