検索結果 - Oskomov K. V.
-
1
Effect of deposition conditions on optical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method 著者: Grenadyorov A. S. Aleksandr Sergeevich
出版事項 2018その他の著者: “…Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich…”
請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
2
Peculiarities of high-current electron beam effect on the structure of ni-ti alloy surface implanted by krypton ions
出版事項 2012その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
3
Mechanical and tribological characteristics of a-C:H:SiOx films formed by PACVD on titanium alloy VT1-0
出版事項 2019その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
全文の入手
電子媒体 図書の章 -
4
The Deposition of Silicon-Carbon Coatings in Plasma Based Nonself-Sustained Arc Discharge with Heated Cathode
出版事項 2016その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
5
Surface hardening of stainless steel by runaway electronspreionized diffuse discharge in air atmosphere
出版事項 2015その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
全文の入手
電子媒体 図書の章 -
6
Modification of various metals by volume discharge in air atmosphere
出版事項 2015その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
全文の入手
電子媒体 図書の章 -
7
Modification of the surface layers of copper by a diffuse discharge in atmospheric pressure air
出版事項 2015その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
全文の入手
電子媒体 図書の章 -
8
Deposition of silicon–carbon coatings from the plasma of a non-self-sustained arc discharge with a heated cathode
出版事項 2016その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
9
Influence of deposition conditions on mechanical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method
出版事項 2018その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
10
Thermal stability of a-C:H:SiOx thin films in hydrogen atmosphere
出版事項 2019その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
11
Deposition of ultrahard Ti–Si–N coatings by pulsed high-current reactive magnetron sputtering
出版事項 2016その他の著者: “…Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich…”
請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
12
Preparation of nickel-containing conductive amorphous carbon films by magnetron sputtering with negative high-voltage pulsed substrate bias
出版事項 2018その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
13
Modification of the steel surface treated by a volume discharge plasma in nitrogen at atmospheric pressure
出版事項 2016その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
14
Plasma Chemical Synthesis of Amorphous Hydrocarbon Films Alloyed by Silicon, Oxygen and Nitrogen
出版事項 2019その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
15
Comparative study of Cu films prepared by DC, high power pulsed and burst magnetron sputtering
出版事項 2016その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
16
Plasma-Chemical Deposition of Anti-Reflection and Protective Coating for Infrared Optics
出版事項 2020その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
17
Natural Oxidation of Ultra-Thin Copper Films
出版事項 2018その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
18
Properties of ultra-thin Cu films grown by high power pulsed magnetron sputtering
出版事項 2017その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
19
Energy Flux at the Substrate During Dual Magnetron Sputtering of TiAlN Coating
出版事項 2023その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章 -
20
Kinetics of plasma-assisted chemical vapor deposition combined with inductively excited RF discharge and properties of a-C:H:SiOx coatings
出版事項 2022その他の著者:請求記号: ロード中…全文の入手
配架場所: ロード中…
電子媒体 図書の章
関連主題
труды учёных ТПУ
электронный ресурс
hardness
пленки
PACVD
substrate bias
wear resistance
поверхности
убегающие электроны
a-C:H:SiOx coating
adhesion
copper
raman spectroscopy
thin films
адгезия
воздух
медь
модификации
нержавеющие стали
покрытия
твердость
тонкие пленки
0.9% NaCl solution
A-C:H:SiOx films
FTIR spectroscopy
Fourier transform infrared spectroscopy
Fourier-transform infrared spectroscopy
Me-doped DLC
Plasma CVD
Raman spectroscopy