Результати пошуку

  • Показ 1 - 14 результатів із 14
Уточнити результати
  1. 1

    Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии за авторством Берлин Е. В. Евгений Владимирович

    Опубліковано Москва, Техносфера, 2010
    Книга
  2. 2
  3. 3
  4. 4

    Полупроводниковые приборы [тематический сборник]

    Опубліковано Москва, Изд-во МЭИ, 1972
    Книга
  5. 5
  6. 6

    Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition за авторством Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich

    Опубліковано 2016
    Отримати повний текст
    Електронний ресурс Частина з книги
  7. 7
  8. 8

    Структура и свойства покрытий системы Hf-Al-C, полученных методом реактивного магнетронного распыления... за авторством Зелецов Д.

    Опубліковано 2019
    Отримати повний текст
    Електронний ресурс Частина з книги
  9. 9

    The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films за авторством Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich

    Опубліковано 2014
    Отримати повний текст
    Електронний ресурс Частина з книги
  10. 10
  11. 11

    Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate

    Опубліковано 2016
    Отримати повний текст
    Отримати повний текст
    Електронний ресурс Частина з книги
  12. 12

    Determination of the Electron Density and Electron Temperature in A Magnetron Discharge Plasma Using Optical Spectroscopy and the Collisional-Radiative Model of Argon

    Опубліковано 2017
    Отримати повний текст
    Електронний ресурс Частина з книги
  13. 13

    Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем за авторством Арсланов И. Р.

    Опубліковано 2002
    Частина з книги
  14. 14

    Диэлектрические пленки для ИС за авторством Саркаров Т. Э.

    Опубліковано Махачкала, ДГТУ, 2021
    Отримати повний текст
    Отримати повний текст
    Електронний ресурс Книга