Результаты поиска

  • Отображение 1 - 14 результаты of 14
Уточнить результаты
  1. 1

    Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии по Берлин Е. В. Евгений Владимирович

    Опубликовано Москва, Техносфера, 2010
    Книга
  2. 2
  3. 3
  4. 4

    Полупроводниковые приборы [тематический сборник]

    Опубликовано Москва, Изд-во МЭИ, 1972
    Книга
  5. 5
  6. 6

    Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition по Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich

    Опубликовано 2016
    Полный текст
    Электронный ресурс Статья
  7. 7
  8. 8

    Структура и свойства покрытий системы Hf-Al-C, полученных методом реактивного магнетронного распыления... по Зелецов Д.

    Опубликовано 2019
    Полный текст
    Электронный ресурс Статья
  9. 9

    The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films по Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich

    Опубликовано 2014
    Полный текст
    Электронный ресурс Статья
  10. 10
  11. 11

    Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate

    Опубликовано 2016
    Полный текст
    Полный текст
    Электронный ресурс Статья
  12. 12

    Determination of the Electron Density and Electron Temperature in A Magnetron Discharge Plasma Using Optical Spectroscopy and the Collisional-Radiative Model of Argon

    Опубликовано 2017
    Полный текст
    Электронный ресурс Статья
  13. 13

    Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем по Арсланов И. Р.

    Опубликовано 2002
    Статья
  14. 14

    Диэлектрические пленки для ИС по Саркаров Т. Э.

    Опубликовано Махачкала, ДГТУ, 2021
    Полный текст
    Полный текст
    Электронный ресурс Книга