Risultati della ricerca

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии di Берлин Е. В. Евгений Владимирович

Физико-механические характеристики гемосовместимых покрытий на основе TiO2 и Ti-O-N, полученных методом реактивного распыления... di Морозова Н. С. Наталья Сергеевна

Testo

Морфология поверхности покрытий на основе оксидов и оксинитридов титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления... di Гребнева И. А. Ирина Андреевна

Testo

Полупроводниковые приборы [тематический сборник]

Морфология поверхности покрытий оксидов и/или оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления... di Арышева Г. В. Галина Владиславовна

Testo

Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition di Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich

Testo

Исследование структуры и механических свойств покрытий на основе Zr-Y-O при импульсном магнетронном осаждении на подложках оптического стекла К208...

Testo

Структура и свойства покрытий системы Hf-Al-C, полученных методом реактивного магнетронного распыления... di Зелецов Д.

Testo

The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films di Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich

Testo

Растворение in vitro, структурные и электрокинетические характеристики оксинитридных покрытий титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления...

Testo

Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate

Testo
Testo

Determination of the Electron Density and Electron Temperature in A Magnetron Discharge Plasma Using Optical Spectroscopy and the Collisional-Radiative Model of Argon

Testo

Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем di Арсланов И. Р.

Диэлектрические пленки для ИС di Саркаров Т. Э.

Testo
Testo