Որոնման արդյունքները

  • Ցուցադրվում են 1 - 14 արդյունքները 14
Հստակեցնել արդյունքները
  1. 1

    Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии Берлин Е. В. Евгений Владимирович

    Հրապարակվել է Москва, Техносфера, 2010
    Գիրք
  2. 2
  3. 3
  4. 4

    Полупроводниковые приборы [тематический сборник]

    Հրապարակվել է Москва, Изд-во МЭИ, 1972
    Գիրք
  5. 5
  6. 6

    Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich

    Հրապարակվել է 2016
    Ստացեք ամբողջական տեքստը
    Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
  7. 7
  8. 8
  9. 9

    The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich

    Հրապարակվել է 2014
    Ստացեք ամբողջական տեքստը
    Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
  10. 10
  11. 11

    Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate

    Հրապարակվել է 2016
    Ստացեք ամբողջական տեքստը
    Ստացեք ամբողջական տեքստը
    Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
  12. 12

    Determination of the Electron Density and Electron Temperature in A Magnetron Discharge Plasma Using Optical Spectroscopy and the Collisional-Radiative Model of Argon

    Հրապարակվել է 2017
    Ստացեք ամբողջական տեքստը
    Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
  13. 13

    Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем Арсланов И. Р.

    Հրապարակվել է 2002
    Գրքի գլուխ
  14. 14

    Диэлектрические пленки для ИС Саркаров Т. Э.

    Հրապարակվել է Махачкала, ДГТУ, 2021
    Ստացեք ամբողջական տեքստը
    Ստացեք ամբողջական տեքստը
    Էլեկտրոնային Գիրք