Hakutulokset

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии Tekijä Берлин Е. В. Евгений Владимирович

Физико-механические характеристики гемосовместимых покрытий на основе TiO2 и Ti-O-N, полученных методом реактивного распыления... Tekijä Морозова Н. С. Наталья Сергеевна

Hae kokoteksti

Морфология поверхности покрытий на основе оксидов и оксинитридов титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления... Tekijä Гребнева И. А. Ирина Андреевна

Hae kokoteksti

Полупроводниковые приборы [тематический сборник]

Морфология поверхности покрытий оксидов и/или оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления... Tekijä Арышева Г. В. Галина Владиславовна

Hae kokoteksti

Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition Tekijä Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich

Hae kokoteksti

Исследование структуры и механических свойств покрытий на основе Zr-Y-O при импульсном магнетронном осаждении на подложках оптического стекла К208...

Hae kokoteksti

Структура и свойства покрытий системы Hf-Al-C, полученных методом реактивного магнетронного распыления... Tekijä Зелецов Д.

Hae kokoteksti

The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films Tekijä Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich

Hae kokoteksti

Растворение in vitro, структурные и электрокинетические характеристики оксинитридных покрытий титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления...

Hae kokoteksti

Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate

Hae kokoteksti
Hae kokoteksti

Determination of the Electron Density and Electron Temperature in A Magnetron Discharge Plasma Using Optical Spectroscopy and the Collisional-Radiative Model of Argon

Hae kokoteksti

Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем Tekijä Арсланов И. Р.

Диэлектрические пленки для ИС Tekijä Саркаров Т. Э.

Hae kokoteksti
Hae kokoteksti