Resultados de búsqueda

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии por Берлин Е. В. Евгений Владимирович

Физико-механические характеристики гемосовместимых покрытий на основе TiO2 и Ti-O-N, полученных методом реактивного распыления... por Морозова Н. С. Наталья Сергеевна

Enlace del recurso

Морфология поверхности покрытий на основе оксидов и оксинитридов титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления... por Гребнева И. А. Ирина Андреевна

Enlace del recurso

Полупроводниковые приборы [тематический сборник]

Морфология поверхности покрытий оксидов и/или оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления... por Арышева Г. В. Галина Владиславовна

Enlace del recurso

Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition por Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich

Enlace del recurso

Исследование структуры и механических свойств покрытий на основе Zr-Y-O при импульсном магнетронном осаждении на подложках оптического стекла К208...

Enlace del recurso

Структура и свойства покрытий системы Hf-Al-C, полученных методом реактивного магнетронного распыления... por Зелецов Д.

Enlace del recurso

The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films por Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich

Enlace del recurso

Растворение in vitro, структурные и электрокинетические характеристики оксинитридных покрытий титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления...

Enlace del recurso

Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate

Enlace del recurso
Enlace del recurso

Determination of the Electron Density and Electron Temperature in A Magnetron Discharge Plasma Using Optical Spectroscopy and the Collisional-Radiative Model of Argon

Enlace del recurso

Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем por Арсланов И. Р.

Диэлектрические пленки для ИС por Саркаров Т. Э.

Enlace del recurso
Enlace del recurso