Αποτελέσματα αναζήτησης

  • Εμφανίζονται 1 - 14 Αποτελέσματα από 14
Περιορισμός αποτελεσμάτων
  1. 1

    Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии από Берлин Е. В. Евгений Владимирович

    Έκδοση Москва, Техносфера, 2010
    Βιβλίο
  2. 2
  3. 3
  4. 4

    Полупроводниковые приборы [тематический сборник]

    Έκδοση Москва, Изд-во МЭИ, 1972
    Βιβλίο
  5. 5
  6. 6

    Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition από Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich

    Έκδοση 2016
    Λήψη πλήρους κειμένου
    Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου
  7. 7
  8. 8

    Структура и свойства покрытий системы Hf-Al-C, полученных методом реактивного магнетронного распыления... από Зелецов Д.

    Έκδοση 2019
    Λήψη πλήρους κειμένου
    Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου
  9. 9

    The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films από Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich

    Έκδοση 2014
    Λήψη πλήρους κειμένου
    Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου
  10. 10
  11. 11

    Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate

    Έκδοση 2016
    Λήψη πλήρους κειμένου
    Λήψη πλήρους κειμένου
    Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου
  12. 12

    Determination of the Electron Density and Electron Temperature in A Magnetron Discharge Plasma Using Optical Spectroscopy and the Collisional-Radiative Model of Argon

    Έκδοση 2017
    Λήψη πλήρους κειμένου
    Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου
  13. 13

    Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем από Арсланов И. Р.

    Έκδοση 2002
    Κεφάλαιο βιβλίου
  14. 14

    Диэлектрические пленки для ИС από Саркаров Т. Э.

    Έκδοση Махачкала, ДГТУ, 2021
    Λήψη πλήρους κειμένου
    Λήψη πλήρους κειμένου
    Ηλεκτρονική πηγή Βιβλίο