Canlyniadau Chwilio

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии gan Берлин Е. В. Евгений Владимирович

Физико-механические характеристики гемосовместимых покрытий на основе TiO2 и Ti-O-N, полученных методом реактивного распыления... gan Морозова Н. С. Наталья Сергеевна

Cael y testun llawn

Морфология поверхности покрытий на основе оксидов и оксинитридов титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления... gan Гребнева И. А. Ирина Андреевна

Cael y testun llawn

Полупроводниковые приборы [тематический сборник]

Морфология поверхности покрытий оксидов и/или оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления... gan Арышева Г. В. Галина Владиславовна

Cael y testun llawn

Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition gan Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich

Cael y testun llawn

Исследование структуры и механических свойств покрытий на основе Zr-Y-O при импульсном магнетронном осаждении на подложках оптического стекла К208...

Cael y testun llawn

Структура и свойства покрытий системы Hf-Al-C, полученных методом реактивного магнетронного распыления... gan Зелецов Д.

Cael y testun llawn

The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films gan Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich

Cael y testun llawn

Растворение in vitro, структурные и электрокинетические характеристики оксинитридных покрытий титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления...

Cael y testun llawn

Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate

Cael y testun llawn
Cael y testun llawn

Determination of the Electron Density and Electron Temperature in A Magnetron Discharge Plasma Using Optical Spectroscopy and the Collisional-Radiative Model of Argon

Cael y testun llawn

Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем gan Арсланов И. Р.

Диэлектрические пленки для ИС gan Саркаров Т. Э.

Cael y testun llawn
Cael y testun llawn