অনুসন্ধান ফলাফলগুলি

  • প্রদর্শন 1 - 14 ফলাফল এর 14
ফলাফল পরিমার্জন করুন
  1. 1

    Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии অনুযায়ী Берлин Е. В. Евгений Владимирович

    প্রকাশিত Москва, Техносфера, 2010
    গ্রন্থ
  2. 2
  3. 3
  4. 4

    Полупроводниковые приборы [тематический сборник]

    প্রকাশিত Москва, Изд-во МЭИ, 1972
    গ্রন্থ
  5. 5
  6. 6

    Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition অনুযায়ী Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich

    প্রকাশিত 2016
    সম্পূর্ণ পাঠ পাওয়ার জন্য
    বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায়
  7. 7
  8. 8

    Структура и свойства покрытий системы Hf-Al-C, полученных методом реактивного магнетронного распыления... অনুযায়ী Зелецов Д.

    প্রকাশিত 2019
    সম্পূর্ণ পাঠ পাওয়ার জন্য
    বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায়
  9. 9

    The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films অনুযায়ী Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich

    প্রকাশিত 2014
    সম্পূর্ণ পাঠ পাওয়ার জন্য
    বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায়
  10. 10
  11. 11

    Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate

    প্রকাশিত 2016
    সম্পূর্ণ পাঠ পাওয়ার জন্য
    সম্পূর্ণ পাঠ পাওয়ার জন্য
    বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায়
  12. 12

    Determination of the Electron Density and Electron Temperature in A Magnetron Discharge Plasma Using Optical Spectroscopy and the Collisional-Radiative Model of Argon

    প্রকাশিত 2017
    সম্পূর্ণ পাঠ পাওয়ার জন্য
    বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায়
  13. 13

    Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем অনুযায়ী Арсланов И. Р.

    প্রকাশিত 2002
    গ্রন্থের অধ্যায়
  14. 14

    Диэлектрические пленки для ИС অনুযায়ী Саркаров Т. Э.

    প্রকাশিত Махачкала, ДГТУ, 2021
    সম্পূর্ণ পাঠ পাওয়ার জন্য
    সম্পূর্ণ পাঠ পাওয়ার জন্য
    বৈদ্যুতিক গ্রন্থ