Rezultati

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии od Берлин Е. В. Евгений Владимирович

Физико-механические характеристики гемосовместимых покрытий на основе TiO2 и Ti-O-N, полученных методом реактивного распыления... od Морозова Н. С. Наталья Сергеевна

Polni tekst

Морфология поверхности покрытий на основе оксидов и оксинитридов титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления... od Гребнева И. А. Ирина Андреевна

Polni tekst

Полупроводниковые приборы [тематический сборник]

Морфология поверхности покрытий оксидов и/или оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления... od Арышева Г. В. Галина Владиславовна

Polni tekst

Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition od Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich

Polni tekst

Исследование структуры и механических свойств покрытий на основе Zr-Y-O при импульсном магнетронном осаждении на подложках оптического стекла К208...

Polni tekst

Структура и свойства покрытий системы Hf-Al-C, полученных методом реактивного магнетронного распыления... od Зелецов Д.

Polni tekst

The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films od Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich

Polni tekst

Растворение in vitro, структурные и электрокинетические характеристики оксинитридных покрытий титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления...

Polni tekst

Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate

Polni tekst
Polni tekst

Determination of the Electron Density and Electron Temperature in A Magnetron Discharge Plasma Using Optical Spectroscopy and the Collisional-Radiative Model of Argon

Polni tekst

Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем od Арсланов И. Р.

Диэлектрические пленки для ИС od Саркаров Т. Э.

Polni tekst
Polni tekst