Разработать физические основы и методы радиационно-ионной модификации пленочных структур и приповерхностных слоев оксидных материалов Новое поколение керамических технологий, основанных на высокоэнергетических воздействиях, Отчеты по НИР

Detalhes bibliográficos
Autor Corporativo: Томский политехнический университет
Publicado em: Томск, 1995
Assuntos:
Formato: Livro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=9111

MARC

LEADER 00000nbm0a2200000 4500
001 9111
005 20231030182246.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\9163 
035 |a BOOK00009223 
090 |a 9111 
100 |a 20011209d1995 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a y p 000zy 
200 1 |a Разработать физические основы и методы радиационно-ионной модификации пленочных структур и приповерхностных слоев оксидных материалов  |a Новое поколение керамических технологий, основанных на высокоэнергетических воздействиях  |e Отчеты по НИР  |f Томский политехнический университет 
210 |a Томск  |d 1995  |d 1998 
215 |a 80 л.+33 л. 
610 1 |a радиация 
610 1 |a ионная обработка 
610 1 |a модифицирование свойств 
610 1 |a электрическая проводимость 
610 1 |a механическая прочность 
610 1 |a диэлектрики 
610 1 |a оксидная керамика 
610 1 |a керамика 
675 |a 537.226(04)  |v 3 
675 |a 666.7(04)  |v 3 
712 0 2 |a Томский политехнический университет  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\376 
801 0 |a RU  |b 63413507  |c 20011209  |g PSBO 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20030428  |g PSBO 
942 |c BK