• English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
    • Հայերէն
    • Українська
Avançada
  • Осаждение из газовой фазы...
  • Citar
  • Enviar aquest missatge de text
  • Enviar per correu electrònic aquest
  • Imprimir
  • Exportar registre
    • Exportar a RefWorks
    • Exportar a EndNoteWeb
    • Exportar a EndNote
  • Enllaç permanent
Осаждение из газовой фазы сокр. пер. с англ.

Осаждение из газовой фазы, сокр. пер. с англ.

Dades bibliogràfiques
Altres autors: Пауэлл К. (340), Оксли Д., Блочер Д.
Publicat: Москва, Атомиздат, 1970
Matèries:
осаждение
газовые фазы
термодинамика
испарение
перенос
конденсация
осадки
материалы
физическое осаждение
химическое осаждение
металлы
ядерное горючее
защитные покрытия
эпитаксиальные пленки
Format: Llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=79765
  • Fons
  • Descripció
  • Ítems similars
  • Visualització del personal
Descripció
Descripció física:472 с. ил.

Ítems similars

  • Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
    per: Киреев В. Ю. Валерий Юрьевич
    Publicat: (Москва, Техносфера, 2006)
  • Химическое осаждение из газовой фазы, вызываемое ВЧ разрядом перевод № 18/ЭТ-1269
    per: Стерлинг Х.
    Publicat: (Москва, Изд-во ЦНИИТЭиНИ, 1967)
  • Влияние температуры испарителя на магнитные свойства пленок кобальта, нанесенных методом химического осаждения из газовой фазы (MOCVD)
    per: Хайруллин Р. Р. Рустам Равильевич
    Publicat: (2013)
  • Газофазное осаждение покрытий из нитрида титана
    per: Витязь П. А. Петр Александрович
    Publicat: (Минск, Наука и техника, 1983)
  • Microstructure of amorphous copper-carbon thin films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition
    Publicat: (2016)