• English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
    • Հայերէն
    • Українська
Pokročilé
  • Оптические основы контактной ф...
  • Vytvořit citaci
  • Zaslat SMS
  • Poslat e-mailem
  • Vytisknout
  • Exportovat záznam
    • Exportovat do RefWorks
    • Exportovat do EndNoteWeb
    • Exportovat do EndNote
  • Trvalý odkaz
Оптические основы контактной фотолитографии

Оптические основы контактной фотолитографии

Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Березин Г. Н. Геннадий Николаевич
Další autoři: Никитин А. В. Аркадий Викторович, Сурис Р. А. Роберт Арнольдович
Jazyk:ruština
Vydáno: Москва, Радио и связь, 1982
Edice:Массовая радиобиблиотека. Электроника
Témata:
фотолитография
теория Френеля-Кирхгофа
дифракционные искажения
контактная печать
электронная техника
Médium: Kniha
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=74860
  • Jednotky
  • Popis
  • Podobné jednotky
  • UNIMARC/MARC
Popis
Fyzický popis:103 с. ил.

Podobné jednotky

  • Основы фотолитографии: учебное пособие
    Autor: Гудымович Е. Н. Елена Никифоровна
    Vydáno: (Томск, Изд-во ТПУ, 2013)
  • Расчет фазовых отражательных дифракционных решеток; Известия вузов. Физика; Т. 47, № 11
    Vydáno: (2004)
  • Литография в производстве интегральных микросхем: учебное пособие для профтехобразования
    Autor: Родионов Ю. А. Юрий Анатольевич
    Vydáno: (Минск, Дизайн ПРО, 1998)
  • Оптика учебное пособие для изучения раздела курса студентами специальностей 080502.65, 250401.65, 250403.65, 150405.65 очной, заочной и очно-заочной форм обучения
    Autor: Ларченко В. М.
    Vydáno: (Красноярск, СибГУ им. академика М. Ф. Решетнёва, 2011)
  • Talbot photolithography optimization with engineered hybrid metal-dielectric mask: High-contrast and highly-uniform Talbot stripes; Optics and Laser Technology; Vol. 148
    Autor: Geynts Yu. E. Yury Elmarovich
    Vydáno: (2022)