Weiter zum Inhalt
VuFind
    • English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
    • Հայերէն
    • Українська
Erweitert
  • CVD-метод. Химическое парофазн...
  • Zitieren
  • SMS versenden
  • Als E-Mail versenden
  • Drucken
  • Datensatz exportieren
    • Exportieren nach RefWorks
    • Exportieren nach EndNoteWeb
    • Exportieren nach EndNote
  • Persistenter Link
CVD-метод. Химическое парофазное осаждение

CVD-метод. Химическое парофазное осаждение

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Сыркин В. Г. Виталий Григорьевич
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Москва, Наука, 2000
Schlagworte:
парофазное химическое осаждение
CVD-метод
металлические материалы
конструирование
металлизация
поверхности
металлические пленки
покрытия
нитевидные кристаллы
вискеры
наночастицы
микрочастицы
получение
летучие металлсодержащие соединения
неразрушающий контроль
Format: Buch
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=71554
  • Exemplare
  • Beschreibung
  • Ähnliche Einträge
  • Internformat

Ähnliche Einträge

  • Коррозионностойкие и жаростойкие материалы : химическое газофазное осаждение защитных покрытий курс лекций
    von: Душик В. В.
    Veröffentlicht: (Москва, МИСИС, 2013)
  • Температурные условия CVD-осаждения как определяющий фактор в формировании плёнок кобальта с заданными эксплуатационными характеристиками
    von: Хайруллин Р. Р. Рустам Равильевич
    Veröffentlicht: (2014)
  • Закономерности структурообразования пленок CO, полученных методом CVD из диимината кобальта, в зависимости от температурных условий осаждения
    von: Хайруллин Р. Р. Рустам Равильевич
    Veröffentlicht: (2014)
  • The dynamic sublayers for improving the adhesion of CVD diamond films on copper
    von: Gaydaychuk A. V. Alexander Valerievich
    Veröffentlicht: (2016)
  • Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники
    Veröffentlicht: (Новосибирск, Изд-во СО РАН, 2013)