Skip to content
VuFind
    • English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
    • Հայերէն
    • Українська
Advanced
  • CVD-метод. Химическое парофазн...
  • Cite this
  • Text this
  • Email this
  • Print
  • Export Record
    • Export to RefWorks
    • Export to EndNoteWeb
    • Export to EndNote
  • Permanent link
Export Ready — 
CVD-метод. Химическое парофазное осаждение

CVD-метод. Химическое парофазное осаждение

Bibliographic Details
Main Author: Сыркин В. Г. Виталий Григорьевич
Language:Russian
Published: Москва, Наука, 2000
Subjects:
парофазное химическое осаждение
CVD-метод
металлические материалы
конструирование
металлизация
поверхности
металлические пленки
покрытия
нитевидные кристаллы
вискеры
наночастицы
микрочастицы
получение
летучие металлсодержащие соединения
неразрушающий контроль
Format: Book
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=71554
  • Holdings
  • Description
  • Similar Items
  • Staff View

Similar Items

  • Коррозионностойкие и жаростойкие материалы : химическое газофазное осаждение защитных покрытий курс лекций
    by: Душик В. В.
    Published: (Москва, МИСИС, 2013)
  • Температурные условия CVD-осаждения как определяющий фактор в формировании плёнок кобальта с заданными эксплуатационными характеристиками
    by: Хайруллин Р. Р. Рустам Равильевич
    Published: (2014)
  • Закономерности структурообразования пленок CO, полученных методом CVD из диимината кобальта, в зависимости от температурных условий осаждения
    by: Хайруллин Р. Р. Рустам Равильевич
    Published: (2014)
  • The dynamic sublayers for improving the adhesion of CVD diamond films on copper
    by: Gaydaychuk A. V. Alexander Valerievich
    Published: (2016)
  • Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники
    Published: (Новосибирск, Изд-во СО РАН, 2013)