Исследование микроструктуры и свойств поликристаллических алмазных покрытий, синтезированных методом HFCVD при высоких концентрациях метана; Журнал технической физики; Т. 93, вып. 6

Dades bibliogràfiques
Parent link:Журнал технической физики=Technical Physics/ Российская академия наук, Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе.— .— Санкт-Петербург: Наука.— 0044-4642
Т. 93, вып. 6.— 2023.— С. 794-803
Altres autors: Митулинский А. С. Александр Сергеевич, Гайдайчук А. В. Александр Валерьевич, Зенкин С. П. Сергей Петрович, Булах В. А. Влада Александровна, Линник С. А. Степан Андреевич
Sumari:Заглавие с экрана
Представлены результаты экспериментальных исследований зависимости структуры и механических свойств алмазных пленок, выращенных методом HFCVD в атмосфере H_2/CH4, от варьирования концентрации метана (в пределах от 5.6 до 19.3 vol.%). Для пленок, синтезированных при 5.6 vol.% CH4 в газовой фазе, характерна столбчатая микрокристаллическая структура. В микроструктуре пленок, выращенных при высоких содержаниях метана (12.2-19.3 vol.%), наблюдаются как отдельные алмазные кристаллы, так и дендритные кластеры, при этом рассчитанные значения размеров кристаллов таких пленок составляют ~5 nm. В зависимости от параметров осаждения твердость и модуль упругости изменялись в пределах от 50.4 и 520 GPa до 95.15 и 974.5 GPa соответственно. При увеличении концентрации CH4 происходит увеличение растягивающих остаточных напряжений. Показана зависимость напряжений от изменения толщины пленки. Морфология поверхности микрокристаллических покрытий значительно отличается от ультрананокристаллических и имеет в среднем на порядок более высокие значения шероховатости поверхности, во всех пленках наблюдается рост шероховатости при увеличении их толщины
Текстовый файл
Idioma:rus
Publicat: 2023
Matèries:
Accés en línia:http://dx.doi.org/10.21883/JTF.2023.06.55604.2-23
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=685534

Ítems similars