Химическое газофазное осаждение тонких пленок оксида алюминия с использованием изопропилата алюминия в качестве прекурсора; Письма в Журнал технической физики; Т. 51, № 13

書目詳細資料
Parent link:Письма в Журнал технической физики=Technical Physics Letters/ Российская академия наук, Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе.— .— Санкт-Петербург: Наука, 1975-.— 0320-0116
Т. 51, № 13.— 2025.— С. 49-53
其他作者: Митулинский А. С. Александр Сергеевич, Гайдайчук А. В. Александр Валерьевич, Зенкин С. П. Сергей Петрович, Линник С. А. Степан Андреевич
總結:Заглавие с экрана
Исследован процесс химического газофазного осаждения тонких пленок оксида алюминия с использованием изопропилата алюминия в качестве прекурсора. Определены параметры осаждения, обеспечивающие высокую скорость роста покрытия (до ~ 0.94 μm/min). Установлено, что полученные покрытия имеют аморфную структуру, а их последующий отжиг при 1200 oC приводит к кристаллизации с формированием фаз α-Al2O3, kappa-Al2O3 и γ-Al2O3. Показано, что использование изопропилата алюминия позволяет получать покрытия высокой чистоты при относительно низких температурах осаждения. Ключевые слова: химическое газофазное осаждение, тонкие пленки, оксид алюминия, термостойкость, термобарьерные покрытия
Текстовый файл
語言:俄语
出版: 2025
主題:
在線閱讀:https://journals.ioffe.ru/articles/60705
格式: 電子 Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=680715

相似書籍