Химическое газофазное осаждение тонких пленок оксида алюминия с использованием изопропилата алюминия в качестве прекурсора; Письма в Журнал технической физики; Т. 51, № 13
| Parent link: | Письма в Журнал технической физики=Technical Physics Letters/ Российская академия наук, Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе.— .— Санкт-Петербург: Наука, 1975-.— 0320-0116 Т. 51, № 13.— 2025.— С. 49-53 |
|---|---|
| Kolejni autorzy: | , , , |
| Streszczenie: | Заглавие с экрана Исследован процесс химического газофазного осаждения тонких пленок оксида алюминия с использованием изопропилата алюминия в качестве прекурсора. Определены параметры осаждения, обеспечивающие высокую скорость роста покрытия (до ~ 0.94 μm/min). Установлено, что полученные покрытия имеют аморфную структуру, а их последующий отжиг при 1200 oC приводит к кристаллизации с формированием фаз α-Al2O3, kappa-Al2O3 и γ-Al2O3. Показано, что использование изопропилата алюминия позволяет получать покрытия высокой чистоты при относительно низких температурах осаждения. Ключевые слова: химическое газофазное осаждение, тонкие пленки, оксид алюминия, термостойкость, термобарьерные покрытия Текстовый файл |
| Język: | rosyjski |
| Wydane: |
2025
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://journals.ioffe.ru/articles/60705 |
| Format: | Elektroniczne Rozdział |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=680715 |