Моделирование сильноточного несамостоятельного тлеющего разряда с полым катодом при низком давлении; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]. Промышленная кибернетика; Т. 1, № 2

Библиографические подробности
Источник:Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]. Промышленная кибернетика: рецензируемый научный журнал/ Национальный исследовательский Томский политехнический университет.— .— Томск: ТПУ, 2023-.— 2949-5407
Т. 1, № 2.— 2023.— С. 30-38
Главный автор: Коваль Т. В. Тамара Васильевна
Другие авторы: Денисов В. В. Владимир Викторович, Островерхов Е. В. Евгений Владимирович
Примечания:Приведены результаты теоретического и компьютерного моделирования сильноточного несамостоятельного тлеющего разряда низкого давления в плазменном источнике. Аналитическая модель отражает основные закономерности и показывает взаимосвязь параметров плазмы в полом катоде. Продемонстрировано применение дрейфово-диффузионного представления для численного моделирования генерации плазмы низкого давления в плазменном катоде источника электронов на основе дугового разряда и в полом катоде несамостоятельного тлеющего разряда. Показано, что распределение плотности эмиссионной плазмы источника электронного тока управляется расположенным внутри него перераспределяющим электродом, а распределение плотности плазмы тлеющего разряда существенно зависит от геометрического фактора (форма катода, анода, эмиссионная поверхность источника электронов) и от расположения источника электронного тока. Согласие результатов компьютерного моделирования с экспериментами указывает на возможность применения математического моделирования при оптимизации имеющихся и разработке новых плазменных источников с наименьшей степенью неоднородности распределения плазмы основного (тлеющего) разряда в разрядной катодной полости, что чрезвычайно важно для технологического применения большеобъемных полых катодов (более 0,2 м3) плазменных источников
The paper introduces the results of theoretical and computer modeling of a high-current, non-self-sustaining, low-pressure glow discharge in a plasma source. The analytical model reflects the main principles and shows the relationship between plasma parameters in a hollow cathode. The paper demonstrates application of drift-diffusion representation for numerical simulation of low-pressure plasma generation in a plasma cathode of an electron source based on an arc discharge and in the hollow cathode of a non-self-sustaining glow discharge. It is shown that distribution of emission plasma density distribution in an electron current source is controlled by a redistributing electrode located inside it. Glow discharge plasma density distribution significantly depends on the geometric factor (shape of a cathode, anode, emissive surface of an electron source) and on elec-tron current source location. The agreement between the results of computer modeling and experiments indicates a possibility of using mathemati-cal modeling in optimizing existing and developing new plasma sources with the least degree of inhomogeneity in plasma distribution of the main (glow) discharge in the discharge cathode cavity. This is extremely important for technological application of large-volume hollow cathodes (more than 0.2 m3) plasma sources
Текстовый файл
Язык:русский
Опубликовано: 2023
Предметы:
Online-ссылка:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/81890
https://doi.org/10.18799/29495407/2023/2/24
Формат: Электронный ресурс Статья
Запись в KOHA:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=675379

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 675379
005 20241209131537.0
090 |a 675379 
100 |a 20241010d2023 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
200 1 |a Моделирование сильноточного несамостоятельного тлеющего разряда с полым катодом при низком давлении  |d Simulation of a high-current non-self-sustained glow discharge with a hollow cathode at low pressure  |z eng  |f Т. В. Коваль, В. В. Денисов, Е. В. Островерхов 
320 |a Список литературы: с. 35-36 (17 назв.) 
330 |a Приведены результаты теоретического и компьютерного моделирования сильноточного несамостоятельного тлеющего разряда низкого давления в плазменном источнике. Аналитическая модель отражает основные закономерности и показывает взаимосвязь параметров плазмы в полом катоде. Продемонстрировано применение дрейфово-диффузионного представления для численного моделирования генерации плазмы низкого давления в плазменном катоде источника электронов на основе дугового разряда и в полом катоде несамостоятельного тлеющего разряда. Показано, что распределение плотности эмиссионной плазмы источника электронного тока управляется расположенным внутри него перераспределяющим электродом, а распределение плотности плазмы тлеющего разряда существенно зависит от геометрического фактора (форма катода, анода, эмиссионная поверхность источника электронов) и от расположения источника электронного тока. Согласие результатов компьютерного моделирования с экспериментами указывает на возможность применения математического моделирования при оптимизации имеющихся и разработке новых плазменных источников с наименьшей степенью неоднородности распределения плазмы основного (тлеющего) разряда в разрядной катодной полости, что чрезвычайно важно для технологического применения большеобъемных полых катодов (более 0,2 м3) плазменных источников 
330 |a The paper introduces the results of theoretical and computer modeling of a high-current, non-self-sustaining, low-pressure glow discharge in a plasma source. The analytical model reflects the main principles and shows the relationship between plasma parameters in a hollow cathode. The paper demonstrates application of drift-diffusion representation for numerical simulation of low-pressure plasma generation in a plasma cathode of an electron source based on an arc discharge and in the hollow cathode of a non-self-sustaining glow discharge. It is shown that distribution of emission plasma density distribution in an electron current source is controlled by a redistributing electrode located inside it. Glow discharge plasma density distribution significantly depends on the geometric factor (shape of a cathode, anode, emissive surface of an electron source) and on elec-tron current source location. The agreement between the results of computer modeling and experiments indicates a possibility of using mathemati-cal modeling in optimizing existing and developing new plasma sources with the least degree of inhomogeneity in plasma distribution of the main (glow) discharge in the discharge cathode cavity. This is extremely important for technological application of large-volume hollow cathodes (more than 0.2 m3) plasma sources 
336 |a Текстовый файл 
461 1 |0 672190  |9 672190  |t Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]. Промышленная кибернетика  |o рецензируемый научный журнал  |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |c Томск  |n ТПУ  |d 2023-  |x 2949-5407 
463 1 |0 675304  |9 675304  |t Т. 1, № 2  |d 2023  |v С. 30-38 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a несамостоятельный тлеющий разряд 
610 1 |a полый катод 
610 1 |a концентрация плазмы 
610 1 |a степень неоднородности 
610 1 |a распределение концентрации заряженных частиц 
610 1 |a плазменный источник 
610 1 |a компьютерное моделирование 
610 1 |a дрейфово-диффузионное приближение 
610 1 |a non-self-sustaining glow discharge 
610 1 |a hollow cathode 
610 1 |a plasma concentration 
610 1 |a degree of inhomogeneity 
610 1 |a distribution of charged particle concentration 
610 1 |a plasma source 
610 1 |a computer modeling 
610 1 |a drift-diffusion approximation 
700 1 |a Коваль  |b Т. В.  |c математик, физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1953-  |g Тамара Васильевна  |9 11402 
701 1 |a Денисов  |b В. В.  |g Владимир Викторович 
701 1 |a Островерхов  |b Е. В.  |g Евгений Владимирович 
801 0 |a RU  |b 63413507  |c 20241010 
850 |a 63413507 
856 4 |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/81890  |z http://earchive.tpu.ru/handle/11683/81890 
856 4 |u https://doi.org/10.18799/29495407/2023/2/24  |z https://doi.org/10.18799/29495407/2023/2/24 
942 |c CF