Моделирование процесса магнетронного осаждения хрома при планетарном вращении подложки; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
| Parent link: | Курзина, И. А. (химик ; 1972-). Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2023 г..— .— Томск: Изд-во ТПУ, 2023 Т. 1 : Физика.— 2023.— С. 288-290 |
|---|---|
| Main Author: | |
| Corporate Author: | |
| Other Authors: | |
| Summary: | Заглавие с экрана The present work investigates the method of simulating magnetron sputtering processes in the case of deposition of chromium coatings. The change in the angle and the distance between the substrate and magnetron target has its impact on the deposition rate and the energy transfer from deposition flux onto the surface of the substrate. This may result in differences in chromium coatings structure. The model was created to simulate the rotational motion of the substrate inside a magnetron sputtering system. The relations between deposition rate and various geometry of the system were found. The experimental verification is to be carried out Текстовый файл |
| Language: | Russian |
| Published: |
2023
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80819 |
| Format: | Electronic Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=673430 |
MARC
| LEADER | 00000naa2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 673430 | ||
| 005 | 20241101142547.0 | ||
| 090 | |a 673430 | ||
| 100 | |a 20240627d2023 k||y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 200 | 1 | |a Моделирование процесса магнетронного осаждения хрома при планетарном вращении подложки |f Э. Э. Оруджов |g науч. рук. Г. А. Блейхер ; Инженерная школа ядерных технологий НИ ТПУ |d Modeling of magnetron deposition of chromium with rotational motion of the substrate |z eng | |
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a Библиография: с. 290 | ||
| 330 | |a The present work investigates the method of simulating magnetron sputtering processes in the case of deposition of chromium coatings. The change in the angle and the distance between the substrate and magnetron target has its impact on the deposition rate and the energy transfer from deposition flux onto the surface of the substrate. This may result in differences in chromium coatings structure. The model was created to simulate the rotational motion of the substrate inside a magnetron sputtering system. The relations between deposition rate and various geometry of the system were found. The experimental verification is to be carried out | ||
| 336 | |a Текстовый файл | ||
| 461 | 1 | |0 636133 |t Перспективы развития фундаментальных наук |l Prospects of Fundamental Sciences Development |o сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2023 г. |d 2023 |9 636133 |a Курзина, И. А. (химик ; 1972-) |c Томск |n Изд-во ТПУ | |
| 463 | 1 | |0 669915 |t Т. 1 : Физика |v С. 288-290 |d 2023 |9 669915 |p 1 файл (75,9 MB, 442 с.) |u conference_tpu-2023-C21_V1.pdf |l Volume 1. Physics | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a процессы осаждения | |
| 610 | 1 | |a численные методы | |
| 610 | 1 | |a закон Ламберта-Кнудсена | |
| 610 | 1 | |a ионный ток | |
| 610 | 1 | |a хром | |
| 610 | 1 | |a математическая модель | |
| 610 | 1 | |a динамическая система | |
| 610 | 1 | |a магнетронное распыление | |
| 700 | 1 | |a Оруджов |b Э. Э. | |
| 702 | 1 | |a Блейхер |b Г. А. |c физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1961- |g Галина Алексеевна |4 727 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет |b Инженерная школа ядерных технологий |b Отделение экспериментальной физики |9 28346 |
| 801 | 0 | |a RU |b 63413507 |c 20240627 |g RCR | |
| 856 | 4 | |z http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80819 |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80819 | |
| 942 | |c CF | ||