Ионно-лучевая обработки внутренней поверхности отверстий из титана высокоинтенсивными пучками ионов алюминия
Parent link: | Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE): proceedings of 8th International Congress, October 2-8, 2022, Tomsk, Russia.— , 2022 International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (16th CMM).— 2022.— [С. 942-947] |
---|---|
Другие авторы: | , , , , |
Примечания: | Заглавие с экрана В данной работе исследуется возможность модификации внутренней поверхности отверстий сфокусированными высокоинтенсивными пучками ионов металлов низкой энергии. Аксиально-симметричная система плазменно-иммерсионной экстракции и баллистической фокусировки обеспечивала формирование ионных пучков. Воздействие пучка ионов на внутреннюю поверхность осуществлялось в области дефокусировки пучка. В исследованиях рассматривалось воздействие пучка ионов алюминия со средней энергией 3 кэВ на внутреннюю поверхность трубы из титана ВТ1-0 диметром 25 мм. Пучки формировались из плазмы непрерывного вакуумно-дугового разряда с частотой следования 40 кГц и длительностью импульсов 10 мкс. Установлено, что взаимное осаждение распыленного материала на противоположные стороны отверстия приводит к самокомпенсации ионного распыления в аксиально-симметричных отверстиях. Подавление ионного распыления приводит к увеличению толщины ионно-легированного слоя. В результате воздействия ионным пучком на внутреннюю поверхность трубы из титана были получены слои, включающие в себя кристаллиты алюминидов титана толщиной свыше 7.5 мкм с максимальной концентрацией алюминия более 25 ат.%. Воздействие высокоинтенсивного пучка ионов в зоне его десфокусировки приводит к неравномерному распределению легирующей примеси по длине отверстия. Имеет место и постепенное уменьшение глубины диффузии имплантируемых атомов по мере удаления от фокуса пучка. |
Язык: | русский |
Опубликовано: |
2022
|
Предметы: | |
Online-ссылка: | http://dx.doi.org/10.56761/EFRE2022.C3-P-018303 |
Формат: | Электронный ресурс Статья |
KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=669206 |
MARC
LEADER | 00000naa0a2200000 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | 669206 | ||
005 | 20250707131526.0 | ||
035 | |a (RuTPU)RU\TPU\network\40446 | ||
035 | |a RU\TPU\network\40445 | ||
090 | |a 669206 | ||
100 | |a 20230228d2022 k||y0rusy50 ca | ||
101 | 0 | |a rus | |
135 | |a drcn ---uucaa | ||
181 | 0 | |a i | |
182 | 0 | |a b | |
200 | 1 | |a Ионно-лучевая обработки внутренней поверхности отверстий из титана высокоинтенсивными пучками ионов алюминия |f А. И. Рябчиков, Д. О. Сивин, А. И. Иванова [и др.] | |
203 | |a Текст |c электронный | ||
300 | |a Заглавие с экрана | ||
320 | |a [Библиогр.: 14 назв.] | ||
330 | |a В данной работе исследуется возможность модификации внутренней поверхности отверстий сфокусированными высокоинтенсивными пучками ионов металлов низкой энергии. Аксиально-симметричная система плазменно-иммерсионной экстракции и баллистической фокусировки обеспечивала формирование ионных пучков. Воздействие пучка ионов на внутреннюю поверхность осуществлялось в области дефокусировки пучка. В исследованиях рассматривалось воздействие пучка ионов алюминия со средней энергией 3 кэВ на внутреннюю поверхность трубы из титана ВТ1-0 диметром 25 мм. Пучки формировались из плазмы непрерывного вакуумно-дугового разряда с частотой следования 40 кГц и длительностью импульсов 10 мкс. Установлено, что взаимное осаждение распыленного материала на противоположные стороны отверстия приводит к самокомпенсации ионного распыления в аксиально-симметричных отверстиях. Подавление ионного распыления приводит к увеличению толщины ионно-легированного слоя. В результате воздействия ионным пучком на внутреннюю поверхность трубы из титана были получены слои, включающие в себя кристаллиты алюминидов титана толщиной свыше 7.5 мкм с максимальной концентрацией алюминия более 25 ат.%. Воздействие высокоинтенсивного пучка ионов в зоне его десфокусировки приводит к неравномерному распределению легирующей примеси по длине отверстия. Имеет место и постепенное уменьшение глубины диффузии имплантируемых атомов по мере удаления от фокуса пучка. | ||
461 | |t Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE) |o proceedings of 8th International Congress, October 2-8, 2022, Tomsk, Russia |d 2022 | ||
463 | |t International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (16th CMM) |v [С. 942-947] |d 2022 | ||
610 | 1 | |a электронный ресурс | |
610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
610 | 1 | |a низкоэнергетические ионы | |
610 | 1 | |a имплантация | |
610 | 1 | |a отверстия | |
610 | 1 | |a ионное распыление | |
610 | 1 | |a алюминид титана | |
701 | 1 | |a Рябчиков |b А. И. |c физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1950- |g Александр Ильич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22006 |9 9303 | |
701 | 1 | |a Сивин |b Д. О. |c физик |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат технических наук |f 1978- |g Денис Олегович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26465 |9 12168 | |
701 | 1 | |a Иванова |b А. И. |c физик |c младший научный сотрудник Томского политехнического университета |f 1987- |g Анна Ивановна |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\36985 |9 20001 | |
701 | 1 | |a Корнева |b О. С. |c физик |c инженер Томского политехнического университета |f 1988- |g Ольга Сергеевна |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\36773 |9 19812 | |
701 | 1 | |a Вахрушев |b Д. О. |c физик |c инженер Томского политехнического университета |f 1998- |g Димитрий Олегович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\47102 |9 22695 | |
712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет |b Инженерная школа ядерных технологий |b Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23698 |
801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20230228 |g RCR | |
850 | |a 63413507 | ||
856 | 4 | |u http://dx.doi.org/10.56761/EFRE2022.C3-P-018303 |z http://dx.doi.org/10.56761/EFRE2022.C3-P-018303 | |
942 | |c CF |