Ионно-лучевая обработки внутренней поверхности отверстий из титана высокоинтенсивными пучками ионов алюминия

Библиографические подробности
Parent link:Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE): proceedings of 8th International Congress, October 2-8, 2022, Tomsk, Russia.— , 2022
International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (16th CMM).— 2022.— [С. 942-947]
Другие авторы: Рябчиков А. И. Александр Ильич, Сивин Д. О. Денис Олегович, Иванова А. И. Анна Ивановна, Корнева О. С. Ольга Сергеевна, Вахрушев Д. О. Димитрий Олегович
Примечания:Заглавие с экрана
В данной работе исследуется возможность модификации внутренней поверхности отверстий сфокусированными высокоинтенсивными пучками ионов металлов низкой энергии. Аксиально-симметричная система плазменно-иммерсионной экстракции и баллистической фокусировки обеспечивала формирование ионных пучков. Воздействие пучка ионов на внутреннюю поверхность осуществлялось в области дефокусировки пучка. В исследованиях рассматривалось воздействие пучка ионов алюминия со средней энергией 3 кэВ на внутреннюю поверхность трубы из титана ВТ1-0 диметром 25 мм. Пучки формировались из плазмы непрерывного вакуумно-дугового разряда с частотой следования 40 кГц и длительностью импульсов 10 мкс. Установлено, что взаимное осаждение распыленного материала на противоположные стороны отверстия приводит к самокомпенсации ионного распыления в аксиально-симметричных отверстиях. Подавление ионного распыления приводит к увеличению толщины ионно-легированного слоя. В результате воздействия ионным пучком на внутреннюю поверхность трубы из титана были получены слои, включающие в себя кристаллиты алюминидов титана толщиной свыше 7.5 мкм с максимальной концентрацией алюминия более 25 ат.%. Воздействие высокоинтенсивного пучка ионов в зоне его десфокусировки приводит к неравномерному распределению легирующей примеси по длине отверстия. Имеет место и постепенное уменьшение глубины диффузии имплантируемых атомов по мере удаления от фокуса пучка.
Язык:русский
Опубликовано: 2022
Предметы:
Online-ссылка:http://dx.doi.org/10.56761/EFRE2022.C3-P-018303
Формат: Электронный ресурс Статья
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=669206

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 669206
005 20250707131526.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\40446 
035 |a RU\TPU\network\40445 
090 |a 669206 
100 |a 20230228d2022 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Ионно-лучевая обработки внутренней поверхности отверстий из титана высокоинтенсивными пучками ионов алюминия  |f А. И. Рябчиков, Д. О. Сивин, А. И. Иванова [и др.] 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: 14 назв.] 
330 |a В данной работе исследуется возможность модификации внутренней поверхности отверстий сфокусированными высокоинтенсивными пучками ионов металлов низкой энергии. Аксиально-симметричная система плазменно-иммерсионной экстракции и баллистической фокусировки обеспечивала формирование ионных пучков. Воздействие пучка ионов на внутреннюю поверхность осуществлялось в области дефокусировки пучка. В исследованиях рассматривалось воздействие пучка ионов алюминия со средней энергией 3 кэВ на внутреннюю поверхность трубы из титана ВТ1-0 диметром 25 мм. Пучки формировались из плазмы непрерывного вакуумно-дугового разряда с частотой следования 40 кГц и длительностью импульсов 10 мкс. Установлено, что взаимное осаждение распыленного материала на противоположные стороны отверстия приводит к самокомпенсации ионного распыления в аксиально-симметричных отверстиях. Подавление ионного распыления приводит к увеличению толщины ионно-легированного слоя. В результате воздействия ионным пучком на внутреннюю поверхность трубы из титана были получены слои, включающие в себя кристаллиты алюминидов титана толщиной свыше 7.5 мкм с максимальной концентрацией алюминия более 25 ат.%. Воздействие высокоинтенсивного пучка ионов в зоне его десфокусировки приводит к неравномерному распределению легирующей примеси по длине отверстия. Имеет место и постепенное уменьшение глубины диффузии имплантируемых атомов по мере удаления от фокуса пучка. 
461 |t Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE)  |o proceedings of 8th International Congress, October 2-8, 2022, Tomsk, Russia  |d 2022 
463 |t International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (16th CMM)  |v [С. 942-947]  |d 2022 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a низкоэнергетические ионы 
610 1 |a имплантация 
610 1 |a отверстия 
610 1 |a ионное распыление 
610 1 |a алюминид титана 
701 1 |a Рябчиков  |b А. И.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1950-  |g Александр Ильич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22006  |9 9303 
701 1 |a Сивин  |b Д. О.  |c физик  |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат технических наук  |f 1978-  |g Денис Олегович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26465  |9 12168 
701 1 |a Иванова  |b А. И.  |c физик  |c младший научный сотрудник Томского политехнического университета  |f 1987-  |g Анна Ивановна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\36985  |9 20001 
701 1 |a Корнева  |b О. С.  |c физик  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1988-  |g Ольга Сергеевна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\36773  |9 19812 
701 1 |a Вахрушев  |b Д. О.  |c физик  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1998-  |g Димитрий Олегович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\47102  |9 22695 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа ядерных технологий  |b Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23698 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20230228  |g RCR 
850 |a 63413507 
856 4 |u http://dx.doi.org/10.56761/EFRE2022.C3-P-018303  |z http://dx.doi.org/10.56761/EFRE2022.C3-P-018303 
942 |c CF