Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Grenadyorov A. S. Aleksandr Sergeevich, Oskirko V. O. Vladimir Olegovich, Solovjev A. A. Andrey Aleksandrovich, Semenov V. A. Vyacheslav Arkadjevich, Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich, . . . Sypchenko V. S. Vladimir Sergeevich. (2022). Kinetics of plasma-assisted chemical vapor deposition combined with inductively excited RF discharge and properties of a-C: H:SiOx coatings; Vacuum; Vol. 199. 2022. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.110982
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Grenadyorov A. S. Aleksandr Sergeevich, Oskirko V. O. Vladimir Olegovich, Solovjev A. A. Andrey Aleksandrovich, Semenov V. A. Vyacheslav Arkadjevich, Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, und Sypchenko V. S. Vladimir Sergeevich. Kinetics of Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition Combined with Inductively Excited RF Discharge and Properties of A-C: H:SiOx Coatings; Vacuum; Vol. 199. 2022, 2022. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.110982.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, et al. Kinetics of Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition Combined with Inductively Excited RF Discharge and Properties of A-C: H:SiOx Coatings; Vacuum; Vol. 199. 2022, 2022. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.110982.