Методика послойного химического анализа мультислойных покрытий Zr/Nb методами оптической эмиссионной спектроскопии тлеющего разряда; Взаимодействие излучений с твердым телом (ВИТТ-2021)
| Parent link: | Взаимодействие излучений с твердым телом (ВИТТ-2021).— 2021.— [С. 584-587] |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | |
| সংস্থা লেখক: | |
| অন্যান্য লেখক: | |
| সংক্ষিপ্ত: | Заглавие с экрана Мультислойные покрытия представляют огромный интерес в применении в различных областях техники, начиная от оптических покрытий, заканчивая защитными. Также, как и любые покрытия, мультислойные системы требуют контроля деградации материала при его использовании, и контроля качества формирования покрытий. Одним из методов, позволяющих разрешать ультратонкие слои и при этом иметь высокое глубинное разрешение, является оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (ОЭСТР). При работе с ОЭСТР существуют особенности, влияющие на результаты исследований. В данной работе показана разработка методики распыления мультислойных покрытий с целью учета неравномерности распыления, обусловленная наличием инструментальных и физических артефактов. Thin films and coatings are used in various fields of engineering, from microelectronics and optics to protective coatings against various influences. A number of interesting properties of multilayer systems are caused by the presence of an unusual structure, multiple interfaces, etc. Optimization of coating deposition processes and determination of coating failure mechanisms are based on investigations of the microstructure and elemental and chemical composition using electron microscopy, X-ray structure analysis and photoelectron spectroscopy. However, in this case, in addition to the technological problems associated with the deposition of a large number of layers, methodological problems also arise in depth profiling as a result of the physical and instrumental artifacts that accompany the ion sputtering of ultra-thin and thin multilayer coatings. Thin-film analysis by depth profiling methods is based on the erosion of surfaces as a result of bombardment by particles with different energies, with the substance being continuously removed as a function of bombardment time. One such method is glow discharge optical emission spectrometry (GD-OES). Considering the high sputtering rates in GD-OES, the main advantage is the possibility to use a radiofrequency source in pulsed mode, thereby reducing the sputtering rate. The application of pulsed discharges allows reproducible measurements with improved detection limits and lower self-absorption, allowing the detection of less material present in thin layers. This study will use the GD-Profiler 2 glow discharge spectrometer. This paper demonstrates the development of a methodology for sputtering multilayer coatings in order to account for sputtering unevenness caused by the presence of instrumental and physical artifacts. |
| ভাষা: | রুশ |
| প্রকাশিত: |
2021
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | http://vitt.bsu.by/publication_4_e.files/584.pdf |
| বিন্যাস: | MixedMaterials বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায় |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=667319 |
MARC
| LEADER | 00000naa0a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 667319 | ||
| 005 | 20251028071619.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\network\38524 | ||
| 035 | |a RU\TPU\network\34359 | ||
| 090 | |a 667319 | ||
| 100 | |a 20220315d2021 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a BY | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Методика послойного химического анализа мультислойных покрытий Zr/Nb методами оптической эмиссионной спектроскопии тлеющего разряда |d Methodology of layer-by-layer chemical analysis of Zr/Nb multilayer coatings by glow discharge optical emission spectroscopy |f А. Ломыгин, Р. С. Лаптев | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: 5 назв.] | ||
| 330 | |a Мультислойные покрытия представляют огромный интерес в применении в различных областях техники, начиная от оптических покрытий, заканчивая защитными. Также, как и любые покрытия, мультислойные системы требуют контроля деградации материала при его использовании, и контроля качества формирования покрытий. Одним из методов, позволяющих разрешать ультратонкие слои и при этом иметь высокое глубинное разрешение, является оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (ОЭСТР). При работе с ОЭСТР существуют особенности, влияющие на результаты исследований. В данной работе показана разработка методики распыления мультислойных покрытий с целью учета неравномерности распыления, обусловленная наличием инструментальных и физических артефактов. | ||
| 330 | |a Thin films and coatings are used in various fields of engineering, from microelectronics and optics to protective coatings against various influences. A number of interesting properties of multilayer systems are caused by the presence of an unusual structure, multiple interfaces, etc. Optimization of coating deposition processes and determination of coating failure mechanisms are based on investigations of the microstructure and elemental and chemical composition using electron microscopy, X-ray structure analysis and photoelectron spectroscopy. However, in this case, in addition to the technological problems associated with the deposition of a large number of layers, methodological problems also arise in depth profiling as a result of the physical and instrumental artifacts that accompany the ion sputtering of ultra-thin and thin multilayer coatings. Thin-film analysis by depth profiling methods is based on the erosion of surfaces as a result of bombardment by particles with different energies, with the substance being continuously removed as a function of bombardment time. One such method is glow discharge optical emission spectrometry (GD-OES). Considering the high sputtering rates in GD-OES, the main advantage is the possibility to use a radiofrequency source in pulsed mode, thereby reducing the sputtering rate. The application of pulsed discharges allows reproducible measurements with improved detection limits and lower self-absorption, allowing the detection of less material present in thin layers. This study will use the GD-Profiler 2 glow discharge spectrometer. This paper demonstrates the development of a methodology for sputtering multilayer coatings in order to account for sputtering unevenness caused by the presence of instrumental and physical artifacts. | ||
| 463 | |t Взаимодействие излучений с твердым телом (ВИТТ-2021) |l Interaction of Radiation with Solids (IRS-2021) |o материалы 14-й Международной конференции, 21- 24 сентября 2021 г., Минск, Беларусь |v [С. 584-587] |d 2021 | ||
| 510 | 1 | |a Methodology of layer-by-layer chemical analysis of Zr/Nb multilayer coatings by glow discharge optical emission spectroscopy |z eng | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a мультислойные структуры | |
| 610 | 1 | |a покрытия | |
| 610 | 1 | |a распыление | |
| 610 | 1 | |a multi-layer coatings | |
| 610 | 1 | |a Zr/Nb | |
| 610 | 1 | |a GD-OES | |
| 610 | 1 | |a sputtering mode | |
| 700 | 1 | |a Ломыгин |b А. Д. |c физик |c заведующий лабораторией Томского политехнического университета |f 1997- |g Антон Дмитриевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\44438 |9 21809 | |
| 701 | 1 | |a Лаптев |b Р. С. |c физик, специалист в области неразрушающего контроля |c доцент Томского политехнического университета, доктор технических наук |f 1987- |g Роман Сергеевич |y Томск |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\29924 |9 14396 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет |b Инженерная школа ядерных технологий |b Отделение экспериментальной физики |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23549 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20220315 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://vitt.bsu.by/publication_4_e.files/584.pdf | |
| 942 | |c CF | ||