Влияние анодной и катодной плазмы на работу электронного диода со взрывоэмиссионным катодом

Dades bibliogràfiques
Parent link:Журнал технической физики
Т. 92, № 2.— 2022.— [С. 232-241]
Autor principal: Пушкарёв А. И. Александр Иванович
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения
Altres autors: Полисадов С. С. Святослав Сергеевич
Sumari:Заглавие с экрана
Представлены результаты моделирования и экспериментального исследования формирования анодной и катодной плазмы в вакуумном диоде со взрывоэмиссионным катодом при генерации импульсного электронного пучка с плотностью тока 0.3-0.4 kA/cm2, ускоряющем напряжении 300-500 kV и длительности импульса 100 ns. Установлено, что концентрация анодной плазмы не превышает 1010 сm-3 и она не вносит заметного вклада в работу диода и что формирование катодной газовой плазмы с концентрацией ~1016 cm-3 обеспечивается полной десорбцией молекул с рабочей поверхности взрывоэмиссионного катода и высокой эффективностью ударной ионизации атомов. Показано, что заряд взрывоэмиссионного плазменного слоя значительно меньше заряда электронного пучка и основным источником электронов является не взрывоэмиссионная плазма, а катодная газовая плазма, при этом электронный ток ограничивается концентрацией катодной плазмы. Использование катода с развитой поверхностью (катод с покрытием из углеродной ткани) позволяет увеличить полный заряд электронного пучка более чем в 1.5 раза без изменения диаметра катода и анод-катодного зазора.
The results of modeling and experimental investigation of the formation of anode and cathode plasmas in a vacuum diode with an explosive-emission cathode during the generation of a pulsed electron beam with a current density of 0.3-0.4 kA/cm^2 and an accelerating voltage of 300-500 kV are presented. It is shown that the concentration of the anode plasma does not exceed 10^10 cm^-3 and it does not significantly contribute to the operation of the diode. However, the complete desorption of molecules from the working surface of the explosive-emission cathode and the high efficiency of shock ionization of atoms ensure the formation of a cathode gas plasma with a concentration of 10^16 cm^-3. It is found that the charge of the explosive-emission plasma layer is significantly less than the charge of the electron beam and the main source of electrons is not an explosive-emission plasma, but a cathode gas plasma. In this case, the electron current is limited by the concentration of the cathode plasma. The use of a cathode with a developed surface (a cathode with a carbon fabric coating) allows increasing the total charge of the electron beam by more than 1.5 times without changing the cathode diameter and the anode-cathode gap.
Publicat: 2022
Matèries:
Accés en línia:https://elibrary.ru/item.asp?id=47289501
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=667313

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 667313
005 20250310144754.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\38518 
035 |a RU\TPU\network\36513 
090 |a 667313 
100 |a 20220315d2022 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Влияние анодной и катодной плазмы на работу электронного диода со взрывоэмиссионным катодом  |d Influence of anode and cathode plasmas on the operation of an electronic diode with an explosive-emission cathode  |f А. И. Пушкарёв, С. С. Полисадов 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: 41 назв.] 
330 |a Представлены результаты моделирования и экспериментального исследования формирования анодной и катодной плазмы в вакуумном диоде со взрывоэмиссионным катодом при генерации импульсного электронного пучка с плотностью тока 0.3-0.4 kA/cm2, ускоряющем напряжении 300-500 kV и длительности импульса 100 ns. Установлено, что концентрация анодной плазмы не превышает 1010 сm-3 и она не вносит заметного вклада в работу диода и что формирование катодной газовой плазмы с концентрацией ~1016 cm-3 обеспечивается полной десорбцией молекул с рабочей поверхности взрывоэмиссионного катода и высокой эффективностью ударной ионизации атомов. Показано, что заряд взрывоэмиссионного плазменного слоя значительно меньше заряда электронного пучка и основным источником электронов является не взрывоэмиссионная плазма, а катодная газовая плазма, при этом электронный ток ограничивается концентрацией катодной плазмы. Использование катода с развитой поверхностью (катод с покрытием из углеродной ткани) позволяет увеличить полный заряд электронного пучка более чем в 1.5 раза без изменения диаметра катода и анод-катодного зазора. 
330 |a The results of modeling and experimental investigation of the formation of anode and cathode plasmas in a vacuum diode with an explosive-emission cathode during the generation of a pulsed electron beam with a current density of 0.3-0.4 kA/cm^2 and an accelerating voltage of 300-500 kV are presented. It is shown that the concentration of the anode plasma does not exceed 10^10 cm^-3 and it does not significantly contribute to the operation of the diode. However, the complete desorption of molecules from the working surface of the explosive-emission cathode and the high efficiency of shock ionization of atoms ensure the formation of a cathode gas plasma with a concentration of 10^16 cm^-3. It is found that the charge of the explosive-emission plasma layer is significantly less than the charge of the electron beam and the main source of electrons is not an explosive-emission plasma, but a cathode gas plasma. In this case, the electron current is limited by the concentration of the cathode plasma. The use of a cathode with a developed surface (a cathode with a carbon fabric coating) allows increasing the total charge of the electron beam by more than 1.5 times without changing the cathode diameter and the anode-cathode gap. 
338 |b Российский фонд фундаментальных исследований  |d 19-38-90001 
461 |t Журнал технической физики 
463 |t Т. 92, № 2  |v [С. 232-241]  |d 2022 
510 1 |a Influence of anode and cathode plasmas on the operation of an electronic diode with an explosive-emission cathode  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a сильноточные электронные пучки 
610 1 |a взрывная эмиссия 
610 1 |a концентрация 
610 1 |a плазма 
610 1 |a десоциализация 
610 1 |a электронные диоды 
610 1 |a high-current electron beam 
610 1 |a explosive emission 
610 1 |a plasma concentration 
610 1 |a electronically stimulated desorption 
700 1 |a Пушкарёв  |b А. И.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |c старший научный сотрудник НИИ ВН Томского политехнического университета  |f 1954-  |g Александр Иванович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26414  |9 12118 
701 1 |a Полисадов  |b С. С.  |c специалист в области материаловедения  |c лаборант Томского политехнического университета  |f 1995-  |g Святослав Сергеевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\47126 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа новых производственных технологий  |b Отделение материаловедения  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23508 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20220315  |g RCR 
856 4 |u https://elibrary.ru/item.asp?id=47289501 
942 |c CF