Cita APA

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Grenadyorov A. S. Aleksandr Sergeevich, & Maloney P. D. Patrik Denni. (2018). Preparation of nickel-containing conductive amorphous carbon films by magnetron sputtering with negative high-voltage pulsed substrate bias. 2018. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.02.013

Citación estilo Chicago

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Grenadyorov A. S. Aleksandr Sergeevich, and Maloney P. D. Patrik Denni. Preparation of Nickel-containing Conductive Amorphous Carbon Films by Magnetron Sputtering with Negative High-voltage Pulsed Substrate Bias. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.02.013.

Cita MLA

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Preparation of Nickel-containing Conductive Amorphous Carbon Films by Magnetron Sputtering with Negative High-voltage Pulsed Substrate Bias. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.02.013.