Solid particle erosion of CVD diamond films deposited at different methane concentration; Wear; Vol. 494-495

Bibliografiske detaljer
Parent link:Wear
Vol. 494-495.— 2022.— [204239, 5 p.]
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий"
Andre forfattere: Gaydaychuk A. V. Alexander Valerievich, Linnik S. A. Stepan Andreevich, Mitulinsky A. S. Aleksandr Sergeevich, Zenkin S. P. Sergey Petrovich
Summary:Title screen
Thick diamond films are synthesized on Si substrate by HFCVD method with different methane concentration (up to 21.9 vol %) in the gas mixture. The erosion resistance of the obtained coatings was investigated by the solid particle erosion of SiC. We show that, regardless of the microstructure, diamond coatings exhibit the same erosion mechanisms. Ring and radial cracks, as well as pin-holes and a local delamination of diamond film were detected for all synthesized films. We found that despite the high degree of initial roughness, the microcrystalline diamond coating showed the maximum erosion resistance at all stages of erosion experiments.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Sprog:engelsk
Udgivet: 2022
Fag:
Online adgang:https://doi.org/10.1016/j.wear.2022.204239
Format: Electronisk Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=667193

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 667193
005 20250304141245.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\38398 
090 |a 667193 
100 |a 20220302d2022 k||y0rusy50 ba 
101 1 |a eng 
102 |a NL 
135 |a arcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Solid particle erosion of CVD diamond films deposited at different methane concentration  |f A. V. Gaydaychuk, S. A. Linnik, A. S. Mitulinsky, S. P. Zenkin 
203 |a Text  |c electronic 
300 |a Title screen 
320 |a [References: 24 tit.] 
330 |a Thick diamond films are synthesized on Si substrate by HFCVD method with different methane concentration (up to 21.9 vol %) in the gas mixture. The erosion resistance of the obtained coatings was investigated by the solid particle erosion of SiC. We show that, regardless of the microstructure, diamond coatings exhibit the same erosion mechanisms. Ring and radial cracks, as well as pin-holes and a local delamination of diamond film were detected for all synthesized films. We found that despite the high degree of initial roughness, the microcrystalline diamond coating showed the maximum erosion resistance at all stages of erosion experiments. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Wear 
463 |t Vol. 494-495  |v [204239, 5 p.]  |d 2022 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a diamond film 
610 1 |a erosion wear 
610 1 |a HFCVD 
610 1 |a алмазные пленки 
610 1 |a эрозионный износ 
701 1 |a Gaydaychuk  |b A. V.  |c physicist  |c Postgraduate, Engineer - Researcher of Tomsk Polytechnic University  |f 1984-  |g Alexander Valerievich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32876  |9 16724 
701 1 |a Linnik  |b S. A.  |c physicist  |c Engineer-Researcher of Tomsk Polytechnic University  |f 1985-  |g Stepan Andreevich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32877  |9 16725 
701 1 |a Mitulinsky  |b A. S.  |c electric power specialist  |c technician of Tomsk Polytechnic University  |f 1998-  |g Aleksandr Sergeevich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\47113 
701 1 |a Zenkin  |b S. P.  |c physicist  |c Researcher of Tomsk Polytechnic University  |f 1988-  |g Sergey Petrovich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\41880 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов  |c (2017- )  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23551 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа новых производственных технологий  |b Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий"  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23502 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20220302  |g RCR 
856 4 |u https://doi.org/10.1016/j.wear.2022.204239 
942 |c CF