Tailoring of optical, mechanical and surface properties of high-entropy Hf-Zr-Ce-Y-O ceramic thin films prepared by HiPIMS sputtering; Surface and Coatings Technology; Vol. 433

Detalles Bibliográficos
Parent link:Surface and Coatings Technology
Vol. 433.— 2022.— [128164 , 5 p.]
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий"
Outros autores: Zenkin S. P. Sergey Petrovich, Gaydaychuk A. V. Alexander Valerievich, Mitulinsky A. S. Aleksandr Sergeevich, Linnik S. A. Stepan Andreevich
Summary:Title screen
In this article we show the optical, mechanical and surface properties change depending on the Hf-Zr-Ce-Y-O thin film composition. Hf4Zr4CeY2O21 shows up to three times higher hardness compared to binary HfZrO4 oxide and up to 50% higher hardness compared to cubic ZrO2 and HfO2 due to the solid solution hardening effect. Equimolar film exhibit a high transmittance >85% and high hydrophobicity with the water contact angle ˜ 106°. Variation of the elemental composition in Hf-Zr-Ce-Y-O is allows to simultaneously tune mechanical and wetting properties for the optimum configuration depending on the application.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:inglés
Publicado: 2022
Subjects:
Acceso en liña:https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128164
Formato: Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=667192

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 667192
005 20250304141148.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\38397 
090 |a 667192 
100 |a 20220302d2022 k||y0rusy50 ba 
101 0 |a eng 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Tailoring of optical, mechanical and surface properties of high-entropy Hf-Zr-Ce-Y-O ceramic thin films prepared by HiPIMS sputtering  |f S. P. Zenkin, A. V. Gaydaychuk, A. S. Mitulinsky, S. A. Linnik 
203 |a Text  |c electronic 
300 |a Title screen 
320 |a [References: 36 tit.] 
330 |a In this article we show the optical, mechanical and surface properties change depending on the Hf-Zr-Ce-Y-O thin film composition. Hf4Zr4CeY2O21 shows up to three times higher hardness compared to binary HfZrO4 oxide and up to 50% higher hardness compared to cubic ZrO2 and HfO2 due to the solid solution hardening effect. Equimolar film exhibit a high transmittance >85% and high hydrophobicity with the water contact angle ˜ 106°. Variation of the elemental composition in Hf-Zr-Ce-Y-O is allows to simultaneously tune mechanical and wetting properties for the optimum configuration depending on the application. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
338 |b Российский фонд фундаментальных исследований  |d 20-21-00037 
461 |t Surface and Coatings Technology 
463 |t Vol. 433  |v [128164 , 5 p.]  |d 2022 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a high entropy oxide 
610 1 |a HiPIMS 
610 1 |a mechanical properties 
610 1 |a hydrophobic ceramics 
610 1 |a механические свойства 
610 1 |a гидрофобные вещества 
701 1 |a Zenkin  |b S. P.  |c physicist  |c Researcher of Tomsk Polytechnic University  |f 1988-  |g Sergey Petrovich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\41880 
701 1 |a Gaydaychuk  |b A. V.  |c physicist  |c Postgraduate, Engineer - Researcher of Tomsk Polytechnic University  |f 1984-  |g Alexander Valerievich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32876  |9 16724 
701 1 |a Mitulinsky  |b A. S.  |c electric power specialist  |c technician of Tomsk Polytechnic University  |f 1998-  |g Aleksandr Sergeevich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\47113 
701 1 |a Linnik  |b S. A.  |c physicist  |c Engineer-Researcher of Tomsk Polytechnic University  |f 1985-  |g Stepan Andreevich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32877  |9 16725 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов  |c (2017- )  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23551 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа новых производственных технологий  |b Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий"  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23502 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20220302  |g RCR 
856 4 |u https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128164 
942 |c CF