Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Koval N. N. Nikolay Nikolaevich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Lopatin I. V. Iljya Viktorovich, Krysina O. V. Olga Vasiljevna, . . . Ignatov D. Yu. Danil Yurjevich. (2018). Low-energy high-current plasma immersion implantation of nitrogen ions in plasma of non-self-sustained arc discharge with thermionic and hollow cathodes; Surface and Coatings Technology; Vol. 340. 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.02.064

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Koval N. N. Nikolay Nikolaevich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Lopatin I. V. Iljya Viktorovich, Krysina O. V. Olga Vasiljevna, Akhmadeev Yu. Kh. Yury Khalyafovich, and Ignatov D. Yu. Danil Yurjevich. Low-energy High-current Plasma Immersion Implantation of Nitrogen Ions in Plasma of Non-self-sustained Arc Discharge with Thermionic and Hollow Cathodes; Surface and Coatings Technology; Vol. 340. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.02.064.

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Low-energy High-current Plasma Immersion Implantation of Nitrogen Ions in Plasma of Non-self-sustained Arc Discharge with Thermionic and Hollow Cathodes; Surface and Coatings Technology; Vol. 340. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.02.064.